傾斜多焦點Fresnel二元光學(xué)元件的優(yōu)化方法和制作研究.pdf

1、二元光學(xué)技術(shù)已廣泛應(yīng)用于各個領(lǐng)域。在光學(xué)信息存儲、記錄和處理、光學(xué)互連、多通道光學(xué)信息處理系統(tǒng)及多目標圖像識別系統(tǒng)等領(lǐng)域，都需要長焦深、多焦點的二元光學(xué)元件，基于這樣的應(yīng)用背景，本文研究了多焦點Fresnel二元光學(xué)元件的優(yōu)化方法和制作。　　以標量衍射理論為基礎(chǔ)，分析了菲涅耳衍射的物理意義，并詳細推導(dǎo)了傾斜焦平面的菲涅耳衍射公式，以此為理論依據(jù)設(shè)計傾斜多焦點Fresnel二元光學(xué)元件。論述了常用的優(yōu)化方法，即迭代傅立葉算法和模擬退火算

2、法，并對優(yōu)化算法進行了改進，意在用于傾斜多焦點Fresnel二元光學(xué)元件的設(shè)計和制作。介紹了分布多焦點Fresnel二元光學(xué)元件的設(shè)計方法，和傾斜多焦點Fresnel二元光學(xué)元件優(yōu)化算法作了比較，指出本文采用的優(yōu)化方法具有優(yōu)化速度快，元件衍射效率高等優(yōu)點。利用方光點激光光刻系統(tǒng)分別制作了兩臺階和四臺階的傾斜多焦點Fresnel二元光學(xué)元件，給出了實驗結(jié)果并進行了分析。　　本文提出的優(yōu)化方法是設(shè)計多焦點菲涅耳衍射元件很有效的方法，它具有