鋁陽極氧化膜的電化學(xué)行為與蝕孔生長機(jī)理研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、該論文對(duì)工業(yè)純鋁陽極氧化膜在侵蝕性介質(zhì)中的電化學(xué)行為進(jìn)行了詳細(xì)研究.發(fā)現(xiàn)氧化時(shí)間越長,陽極氧化膜的鈍化傾向越大,且氧化時(shí)間越長,能對(duì)氧化膜造成嚴(yán)重破壞的陰極極化起始電位值也越低.其次,對(duì)工業(yè)純鋁陽極氧化膜在NaCl溶液中的局部腐蝕進(jìn)行了較深入研究.對(duì)陽極氧化膜蝕孔的發(fā)展機(jī)理研究,采用低電位誘發(fā)和氧化膜中夾雜Cl-兩種方法使氧化膜發(fā)生孔蝕,發(fā)現(xiàn)蝕孔的發(fā)展可能以兩種方式進(jìn)行,一種為單個(gè)蝕孔由小到大逐漸生長,形成一個(gè)穩(wěn)定的蝕孔.另一種為緊靠在

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