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1、lYilll/3lll/2l/lt7l/lll6lt/16l/lt7ll/116//lllY3276676囡XAFS應(yīng)用于半導(dǎo)體材料研究及分析方法創(chuàng)新李嫻雅像西夫嘗互b●七年五月廣西大學(xué)學(xué)位論文原創(chuàng)性和使用授權(quán)聲明本人聲明所呈交的論文,是本人在導(dǎo)師的指導(dǎo)下獨(dú)立進(jìn)行研究所取得的研究成果。除已特別加以標(biāo)注和致謝的地方外,論文不包含任何其他個(gè)人或集體已經(jīng)發(fā)表或撰寫(xiě)的研究成果,也不包含本人或他人為獲得廣西大學(xué)或其它單位的學(xué)位而使用過(guò)的材料。與我
2、一同工作的同事對(duì)本論文的研究工作所做的貢獻(xiàn)均已在論文中作了明確說(shuō)明。本人在導(dǎo)師指導(dǎo)下所完成的學(xué)位論文及相關(guān)的職務(wù)作品,知識(shí)產(chǎn)權(quán)歸屬?gòu)V西大學(xué)。本人授權(quán)廣西大學(xué)擁有學(xué)位論文的部分使用權(quán),即:學(xué)校有權(quán)保存并向國(guó)家有關(guān)部門(mén)或機(jī)構(gòu)送交學(xué)位論文的復(fù)印件和電子版,允許論文被查閱和借閱,可以將學(xué)位論文的全部或部分內(nèi)容編入有關(guān)數(shù)據(jù)庫(kù)進(jìn)行檢索和傳播,可以采用影印、縮印或其它復(fù)制手段保存、匯編學(xué)位論文。本學(xué)位論文屬于:口保密,在年解密后適用授權(quán)。d朵保密。(
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