納米量子點(diǎn)及其表面分子印跡材料應(yīng)用于化學(xué)發(fā)光分析.pdf

1、分子印跡聚合物(MIP)是通過化學(xué)手段人工合成的高分子仿生材料，它是將功能單體在模板分子(目標(biāo)分子，又稱印跡分子)的存在下交聯(lián)聚合，然后洗脫除去模板分子。這樣制得的聚合物，在立體空穴和作用位點(diǎn)上與模板分子具有互補(bǔ)的結(jié)構(gòu)，又具有模板分子可回收重復(fù)使用的優(yōu)點(diǎn)，因此在分子識(shí)別中有著特殊的選擇性和良好的應(yīng)用前景。本論文中我們使用不同的分子印跡合成手段合成分子印跡聚合物，對(duì)環(huán)境樣品中的痕量對(duì)硝基酚進(jìn)行富集分離，然后與化學(xué)發(fā)光等分析手段對(duì)富集的對(duì)硝

2、基酚進(jìn)行測定分析。主要工作及研究如下：
　　 1.首先綜述了分子印跡的發(fā)展史、分子印跡的基本原理以及制備方法，然后總結(jié)了分子印跡技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)，并對(duì)其未來的發(fā)展做出了展望。
　　 2.合成了不同種類的錳摻雜硫化鋅量子點(diǎn)并將它們應(yīng)用到高碘酸鈉-雙氧水的化學(xué)發(fā)光體系中，研究了不同種類的納米量子點(diǎn)對(duì)化學(xué)發(fā)光體系的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，納米量子點(diǎn)的尺寸效用，表面是否存在殼的保護(hù)以及表面穩(wěn)定劑的類型都會(huì)影響其對(duì)化學(xué)發(fā)光體系的作用。同時(shí)

3、還用高能量截止濾光片對(duì)化學(xué)發(fā)光光譜進(jìn)行了研究和分析，對(duì)該體系的化學(xué)發(fā)光機(jī)理做出合理的推測。
　　 3.分子印跡技術(shù)是在復(fù)雜樣品中分離目標(biāo)分子的一項(xiàng)令人滿意的技術(shù)?；阱i摻雜的硫化鋅量子點(diǎn)合成了以對(duì)硝基酚為模板分子的表面分子印跡聚合物，該分子印跡聚合物對(duì)模板分子對(duì)硝基酚有著選擇性的熒光響應(yīng)。將合成的表面分子印跡聚合物應(yīng)用到高碘酸鈉-雙氧水化學(xué)發(fā)光體系中，結(jié)合了分子印跡聚合物的高選擇性與化學(xué)發(fā)光的高靈敏度。該化學(xué)發(fā)光方法的線性范圍為