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文檔簡介
1、隨著多孔金屬材料制備技術的發(fā)展,采用簡單綠色的方法制備具有高孔隙率、高比表面積的多孔金屬材料成為近年來的研究熱點。本文通過氫氣泡動態(tài)模板法沉積制備了具有三維蜂窩狀孔洞形貌的多孔銅,其孔壁由分形納米銅晶枝、納米銅棒、納米銅顆粒組成,這種典型的類荷葉微-納結構使多孔銅的表面具有疏水性。研究了不同工藝條件對多孔銅形貌特性的影響,通過控制添加劑種類和電沉積參數(shù)可有效控制多孔銅的晶枝形貌和孔徑分布。采用場發(fā)射掃描電鏡和激光共聚焦顯微鏡對多孔銅的晶
2、枝形貌和孔徑分布進行表征,將多孔銅與氧化劑復合構成一種新型的具有微納結構的含能材料,初步研究了其化學反應歷程。
在基礎電解液中添加了NaCl、EDTA(乙二胺四乙酸二鈉)、Na2SO4、(NH4)2SO4幾種添加劑研究其對多孔銅晶枝形貌的影響,研究結果表明:NaCl、Na2SO4在銅的沉積過程起到催化加速作用,所制備的多孔銅晶枝變細,孔壁光滑致密;EDTA的絡合作用使多孔銅晶枝由“枝狀”變?yōu)椤傲鰻睢?(NH4)2SO4可使
3、枝狀晶枝變?yōu)辂溗霠?,孔壁極其粗糙。特別地,NaCl/EDTA在多孔銅的沉積過程中發(fā)揮“協(xié)同作用”,制備的多孔銅晶枝細膩、表面光滑致密,且沉積過程可長時間進行,沉積層不會發(fā)生坍塌。
本文系統(tǒng)研究了電化學參數(shù)對孔密度和孔徑分布的影響,結果表明,隨著沉積時間的增加,多孔銅表面孔徑增大,體系孔密度增加。在含NaCl的基礎電解液中,當陰極電流密度由1A/cm2增至4A/cm2,多孔銅的孔徑逐漸減小,孔密度增加。
通過分
4、形生長理論解釋了不同溶液環(huán)境中制備多孔銅的晶枝形貌。為了闡明三維多孔銅的形成過程,提出了“層堆積”模型,并應用該模型分析解釋添加劑、電化學參數(shù)對多孔銅孔徑分布的影響過程。
通過溶劑揮發(fā)法將AP(高氯酸銨)填入到多孔銅中制備了多孔銅含能復合薄膜材料,并采用同步熱分析法分析多孔銅/高氯酸銨復合薄膜的反應過程,分析結果表明,在多孔銅的催化加速作用下,復合薄膜的起始反應溫度低于AP的晶型轉變溫度,這種現(xiàn)象類似于納米金屬粒子對AP的
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