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1、本文采用磁控濺射系統(tǒng)在單晶硅上獲得了表面光滑顆粒均勻的二氧化鈦薄膜,此外利用等離子體表面處理系統(tǒng),通過(guò)改進(jìn)工藝方法,優(yōu)化工藝條件,對(duì)二氧化鈦薄膜表面化學(xué)組成進(jìn)行調(diào)控,獲得了浸潤(rùn)性能從親水到超親水范圍變化的表面。系統(tǒng)地研究了工藝參數(shù)對(duì)二氧化鈦薄膜的表面結(jié)構(gòu)以及浸潤(rùn)性能的影響。 主要的研究工作進(jìn)展如下: 1.通過(guò)調(diào)控濺射工藝成功制備表面形貌雖然比較單一的二氧化鈦薄膜,其表面特征為光滑平坦,晶粒的直徑比較小,基本分布在20納米
2、到50納米之間,每項(xiàng)參數(shù)的經(jīng)過(guò)比對(duì)經(jīng)過(guò)分析比較后確定出最佳值; 2.對(duì)二氧化鈦薄膜的表面進(jìn)行表面修飾,發(fā)現(xiàn)經(jīng)過(guò)修飾的表面更加親水,同時(shí)對(duì)油變得疏些。雖然變化不是很大,但是表明了一個(gè)很好的方向,即使不考慮改變表面形貌,只通過(guò)表面修飾就可以實(shí)現(xiàn)二氧化鈦薄膜表面更加的親水; 3.再經(jīng)過(guò)退火處理后,薄膜實(shí)現(xiàn)了超親水,同時(shí)疏油的趨勢(shì)進(jìn)一步明顯,親水的程度超過(guò)了親油,說(shuō)明薄膜表層結(jié)構(gòu)的變化和表面基團(tuán)的修飾能夠?qū)崿F(xiàn)超親水化,薄膜表面的
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