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文檔簡介
1、三維熒光光譜能同時(shí)描述熒光強(qiáng)度隨激發(fā)波長和發(fā)射波長變化的關(guān)系,能完整的體現(xiàn)物質(zhì)的熒光特性,是一種很有價(jià)值的光譜指紋技術(shù),目前,基于三維熒光光譜的定量分析方法主要是基于向量的一階校正法和基于張量分解的高階校正法。三維光譜數(shù)據(jù)矩陣本質(zhì)上是二階張量形式,本文研究了基于支持張量機(jī)的三維熒光光譜定量分析方法,該方法保留了三維光譜數(shù)據(jù)所固有的結(jié)構(gòu)信息及數(shù)據(jù)的內(nèi)在相關(guān)性,減少了模型中的待定模型參數(shù),也克服了基于張量分解的高階校正法中需要預(yù)估組分?jǐn)?shù)的缺
2、點(diǎn)。本文主要包括以下幾個(gè)方面的內(nèi)容:
1)介紹了基于支持張量機(jī)的回歸建模方法,并進(jìn)行詳細(xì)的推導(dǎo)和敘述,為了驗(yàn)證該方法的泛化能力,分別與主成分回歸(PCR),偏最小二乘(PLS),支持向量機(jī)(SVM)等基于向量的一階校正法和平行因子算法(PARAFAC),多維偏最小二乘(N-PLS)等基于張量分解的二階校正法進(jìn)行比較實(shí)驗(yàn),同時(shí)針對參數(shù)C和ε不同情況也進(jìn)行了實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示了該方法對C和ε的變化不是很敏感。
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