Ag薄膜表面粗糙度的研究.pdf

1、Ag薄膜由于其優(yōu)良的光電性質及廣泛的應用前景而備受科研工作者的關注。近幾年，納米金屬Ag材料的表面等離子體激元(SPP)由于其獨特的光學特性，更是成為了當前的重要研究課題。
　　傳統(tǒng)的光學成像因受衍射極限的存在的限制，導致光學成像分辨率最大只能達到入射光波長的二分之一。為了突破衍射極限從而實現超衍射光學成像，國內外科研工作者提出了超透鏡器件來實現這一目標。而作為超透鏡器件重要組成部分的Ag薄膜也成為眾多學者研究的對象。實現超透鏡器

2、件，需要解決好幾項關鍵技術，透鏡器件重要組成部分的Ag薄膜表面粗糙度就是其中之一。本文以此為研究對象，研究制備工藝對Ag膜表面粗糙度的影響及理論模擬Ag膜表面粗糙度對透鏡器件成像的影響。
　　研究的主要內容和結果如下:
　　1.運用理論仿真模擬軟件，研究Ag膜表面粗糙度在超透鏡器件中的作用和影響。發(fā)現隨著銀層的粗糙度的增加，成像質量的對比度逐漸降低;當RMS等于零（理想情況）時，其成像質量的對比度為0.93，當RMS增加到2

3、.6 nm時，成像質量的對比度降到0.6。
　　2.采用蒸發(fā)法和磁控濺射兩種方法制備了Ag薄膜，系統(tǒng)研究了Ag薄膜的表面形貌性質。為改進超透鏡器件中Ag薄膜表面粗糙度提供了依據。
　　3.研究在磁控濺射制備的Ag膜，濺射功率和濺射壓強對Ag膜沉積速率和表面粗糙度影響。發(fā)現用磁控濺射方法改變工藝參數，RMS可從5.0 nm減小到1.1nm。在相同濺射功率下，濺射氣壓從1.0 Pa升到3.0 Pa，Ag膜沉積速率和表面粗糙度隨濺