光柵掃描電子束曝光機(jī)真空及換片機(jī)構(gòu)控制系統(tǒng).pdf

1、電子束曝光技術(shù)是目前制造亞微米高分辨率微細(xì)圖形的主要手段.該課題主要研究Ee<'->BES-40A型光柵掃描電子束曝光機(jī)真空及換片機(jī)構(gòu)的工作原理和計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng).該文首先綜述了微細(xì)加工技術(shù)的基本知識(shí)、國(guó)內(nèi)外電子束曝光技術(shù)的發(fā)展過程和趨勢(shì)以及電子束曝光機(jī)的研制與應(yīng)用,然后較為完整地介紹了Ee<'->BES-40A型光柵掃描電子束曝光機(jī)的各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng),包括系統(tǒng)中的控制器和接口.該文詳細(xì)研究了真空系統(tǒng)的組成、工作原理

2、和控制系統(tǒng),從理論上推導(dǎo)了真空狀態(tài)的故障檢測(cè)方法-壓強(qiáng)上升率法,通過壓強(qiáng)-時(shí)間特性曲線確定影響真空的主要因素.要保證真空系統(tǒng)工作的可靠性,尚需研制一種有效的真空故障排除方法.該課題對(duì)Eclipse計(jì)算機(jī)與微處理器的接口進(jìn)行了較為詳細(xì)的研究,對(duì)控制軟件作了原理性的探討,編制出了工作流程,從宏觀上設(shè)計(jì)出控制程序的基本框架,這些都在文中作了較為全面的敘述.該課題所做的工作,為下一步更新主控計(jì)算機(jī)、重新設(shè)計(jì)和配置相應(yīng)的接口、保持系統(tǒng)真空、實(shí)現(xiàn)自