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1、該論文采用脈沖激光沉積(PLD)法,重點(diǎn)研究了兩種過渡金屬氧化物薄膜電極材料的制備及其電化學(xué)性能.一種是作為陰極材料的由NiO與V<,2>O<,5>組成的復(fù)合氧化物薄膜;另一種是作為陽(yáng)極材料的基于氧化鐵的薄膜,包括Fe<,2>O<,3>薄膜和NiFe<,2>O<,4>薄膜.1、NiO-V<,2>O<,5>復(fù)合氧化物薄膜及其電化學(xué)性能的研究.結(jié)果表明在第一次嵌鋰過程中存在一步不可逆的電極反應(yīng),可能對(duì)應(yīng)于NiO被還原為金屬Ni的反應(yīng).復(fù)合薄
2、膜電化學(xué)性能的改善可能與NiO的加入引起薄膜結(jié)構(gòu)和表面形貌的轉(zhuǎn)變以及電化學(xué)反應(yīng)過程中NiO被還原為金屬Ni并分散在V<,2>O<,5>基質(zhì)中有關(guān).2.基于氧化鐵的薄膜及其電化學(xué)性能的研究.對(duì)PLD法制備氧化鐵薄膜的沉積條件,包括沉積溫度、環(huán)境氣氛和靶材料等,對(duì)薄膜性能的影響進(jìn)行了研究.結(jié)果表明,在14Pa O<,2>氣氛中,在溫度為400℃的不銹鋼基片上沉積的氧化鐵薄膜電化學(xué)性能較好,靶材料為金屬鐵粉時(shí)經(jīng)反應(yīng)性脈沖激光沉積所得的薄膜性能
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