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文檔簡介
1、美國、日本、德國等發(fā)達國家對納米探測、納米光刻技術十分重視,紛紛投入了大量的人力物力進行研究開發(fā),已經(jīng)取得了比較好的研究成果。而我們國家的近場掃描光學顯微鏡的研制還處于起步階段,目前儀器主要依賴進口,我們在Topometrix的產(chǎn)品的基礎上,研制出了自己特色的“模塊化的保偏近場掃描光學顯微鏡”,我們制成的橫置的實驗平臺,它的光學部分采用水平放置的光學系統(tǒng),避免使用折射、反射元件避免光偏振態(tài)變化,同時采用短光纖探針避免由光纖傳輸引起的偏振
2、態(tài)變化。這種保偏型的SNOM可廣泛應用于各向異性樣品的表征、局域光學偏振態(tài)探測和偏振光刻寫等研究領域。 本文結合國家自然科學基金項目——“偶氮聚合物光致異構轉化的近場觀測和定量分析(No.60377004)”的主要研究內容,實現(xiàn)了光纖探針的小批量生產(chǎn),完成了現(xiàn)有的近場掃描光學顯微鏡的改造,研制出了模塊化的保偏近場掃描光學顯微鏡,并使之適應定量測量局域的光學各向異性,文章中給出了定量測量局域光學各向異性理論分析計算以及實驗方法;為
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