矩形磁控濺射靶磁場(chǎng)仿真與優(yōu)化設(shè)計(jì).pdf

1、磁控濺射已成為工業(yè)鍍膜生產(chǎn)中最重要的技術(shù)之一，尤其適合于大面積鍍膜生產(chǎn)。磁場(chǎng)分布在整個(gè)濺射過(guò)程中起著至關(guān)重要的作用，其磁場(chǎng)強(qiáng)度的大小、分布以及由以上諸因素決定了等離子體的特性，從而對(duì)成膜質(zhì)量、靶表面刻蝕區(qū)的均勻程度以及靶材的利用率均有影響，因此相關(guān)課題的研究具有重要的學(xué)術(shù)和應(yīng)用價(jià)值。
　　 本文討論了靶材刻蝕不均勻、膜層沉積速率低和均勻性不好等問(wèn)題出現(xiàn)的原因，提出了解決問(wèn)題的思路和方法，并且給出了磁場(chǎng)強(qiáng)度、磁場(chǎng)均勻性和磁體結(jié)構(gòu)的

2、設(shè)計(jì)原則，根據(jù)電磁場(chǎng)分布來(lái)判斷設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)是否合理。
　　 通過(guò)磁場(chǎng)的有限元模擬，分別分析了直跑道區(qū)域和端部區(qū)域磁鋼結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)靶面磁場(chǎng)均勻性和強(qiáng)度的影響，磁體安裝接縫及磁性能差異對(duì)靶面磁場(chǎng)的影響。分析指出磁鋼削角能夠增加靶面磁場(chǎng)平行度，削角大小對(duì)磁場(chǎng)平行度影響較小，但大削角明顯削弱磁場(chǎng)強(qiáng)度；通過(guò)比較不同寬度和高度磁鋼產(chǎn)生靶面磁場(chǎng)分布，得出一定靶結(jié)構(gòu)參數(shù)下的磁鋼優(yōu)化尺寸；磁鋼上方增加鐵質(zhì)勻磁片能夠減小磁體安裝接縫及磁性能差異對(duì)靶面磁場(chǎng)