版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、公迷曇/J大々UDC密級學(xué)位論文高品質(zhì)金基合金濺射靶材的開發(fā)與制備作者姓名:張俊凱指導(dǎo)教師:張勤副教授東北大學(xué)材料與冶金學(xué)院申請學(xué)位級別:碩士學(xué)科類別:工程學(xué)梃業(yè)名豢?!谝苯鹩癯陶撐奶峤蝗掌冢?014年6月論文答辯日期:2014年6月學(xué)位授予日期:2014年7月答辯委員會主席:婁太平教授評閱人:婁太平教授孟飆副教授東北大學(xué)2014年6月獨創(chuàng)性聲明本人聲明,所呈交的學(xué)位論文是在導(dǎo)師的指導(dǎo)下完成的。論文中取得的研究成果除加以標(biāo)注和致謝的地方
2、外,不包含其他人己經(jīng)發(fā)表或撰寫過的研究成果,也不包括本人為獲得其他學(xué)位而使用過的材料。與我一同工作的同志對本研究所做的任何貢獻均己在論文中作了明確的說明并表示謝意。學(xué)位論文作者簽名:諏住易∥日期:矽膨,7≯學(xué)位論文版權(quán)使用授權(quán)書本學(xué)位論文作者和指導(dǎo)教師完全了解東北大學(xué)有關(guān)保留、使用學(xué)位論文的規(guī)定:即學(xué)校有權(quán)保留并向國家有關(guān)部門或機構(gòu)送交論文的復(fù)印件和磁盤,允許論文被查閱和借閱。本人同意東北大學(xué)可以將學(xué)位論文的全部或部分內(nèi)容編入有關(guān)數(shù)據(jù)庫
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 用于濺射靶材的鈷基合金及細(xì)晶純金屬微觀組織的研究.pdf
- gbt 29658-2013 電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材
- La和Ca摻雜PbTiO3磁控濺射靶材制備及薄膜結(jié)構(gòu)表征.pdf
- 鉬鈮合金靶材制備及其濺射薄膜性能研究.pdf
- 高純銅錳合金濺射靶材用板材退火過程中微觀組織和織構(gòu)演變.pdf
- 等離子噴涂Al2O3摻雜ZnO濺射靶材的研究.pdf
- ys∕t 893-2013 電子薄膜用高純鈦濺射靶材
- 矩形磁控濺射靶磁場仿真與優(yōu)化設(shè)計.pdf
- 圓平面磁控濺射靶的優(yōu)化研究.pdf
- 高性能磁控濺射靶槍的設(shè)計.pdf
- 高品質(zhì)預(yù)焙陽極制備研究.pdf
- 高品質(zhì)海地瓜多糖制備工藝研究.pdf
- 高品質(zhì)CdS量子點綠色化學(xué)制備與表征.pdf
- 矩形磁控濺射靶的磁場模擬分析及優(yōu)化.pdf
- 磁控濺射TiN基涂層制備與性能研究.pdf
- 合金靶材濺射法制備Cu(In,Ga)Se2薄膜與其性能研究.pdf
- 矩形平面移動濺射靶的設(shè)計畢業(yè)論文
- 磁控濺射制備硅基哈氏合金薄膜結(jié)構(gòu)及性能研究.pdf
- 高品質(zhì)PBT纖維眼線筆毛刷的開發(fā).pdf
- 高品質(zhì)溝通
評論
0/150
提交評論