CPA型磁控濺射設(shè)備靶改進(jìn)及磁場模擬分析研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、IIABSTRACTMagronsputteringdepositionistheonekeywayofallmethod.Itiswidelyusedinmicroelectronicsopticalcoatingssurfacetreatmentareas.Ithasmeobviousadvantageinlargeareacoatingparticularly.Thesputteringdepositionratetargetut

2、ilizationaremeconcernedduringtheproductionprocess.Ithasadecisiveinfluenceonarrangementofthedesignedmagicthetarget.Sothetargetthemagicfieldmustbeoptimizedfthisreason.Thedevelopmentprocessofsputteringisintroducedinthesecon

3、dchapter.Awayofresolvingproblemswhichwefacehasbeenfended.Itprovidesatheeticalbasisftheanalysissolvingcurrentproblems.Thetheyofglowdisgevoltageacteristicsthevoltampereactercurveareintroducedinthethirdchapterwhichmarkedusd

4、eeplyunderstingofthedisgeacteristics.Ffurtherindepthunderstingknowledgetheyofsputteringinelectromagicfieldthecollisionthey.Themovementdistributionofgedparticlesaredetailedinthemovement.Therelationisintroducedbetweentheen

5、ergythesputteringyieldinthesputteringyield.Theempiricalfmulaofsputteringyieldfcalculatingtheutilizationratiooftargethasbeenprovidedthetheeticalsuppt.Withthegrowthofenergythesputteringyieldisincreasedatfirstdecreasedlater

6、duringtheprocess.Factsofthedepositionfilmaregivenitprovidesatheeticalguidanceftheproductionofhighqualitydepositionrate.Therequirementofthefilmissatisfiedwithhardnessthicknessstructurecompositionbyadjustingtheoptimization

7、oftestparameters.Theanalysisresearchabouttargetmagicfieldofthemagronsputteringisinthefourthchapter.Themagicfieldnotonlyaffectsthedisgeacteristicsplasmadistributioncathodesputteringtargetoftheetchingratebutalsoseriouslyre

8、strictedthetargetlifetargetutilizationatthesametimeaffectthestabilityoftheexperimentrepeatabilityduringsputtering.Thetheiesoftargetsurfacemagicfielddistributionstructuraldesigndesignprincipleshavebeenresearchedwhichprovi

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