2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題（含答案詳解+作文范文）_第1頁
已閱讀1頁，還剩73頁未讀， 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權，請進行舉報或認領

文檔簡介

1、磁控濺射是一種物理氣相沉積技術,已被廣泛地應用于各種薄膜的制備.它主要包括濺出粒子(原子或分子)的產(chǎn)生和輸運以及輸運到基片的粒子在基片上的擴散、聚集、生長成膜兩大微觀過程.其中,產(chǎn)生濺出粒子的靶材濺射過程是關鍵性的部分.在靶材濺射過程中,濺射產(chǎn)額與靶材的刻蝕一直是人們感興趣的研究內(nèi)容.人們主要通過實驗方法來研究薄膜的性能和靶材的刻蝕,因此周期長、成本高.計算機模擬作為一種新的研究手段,對實驗和理論起到了重要的補充作用,因此對薄膜性能和靶

2、材刻蝕的模擬研究越來越為人們重視.本論文主要有兩方面的內(nèi)容: (1)運用蒙特卡羅方法(MC)模擬磁控濺射中的靶材濺射過程,按照己有的理論模型,跟蹤粒子(入射離子、濺射原子)的過程狀態(tài)(能量、方向、位置等): (2)建立靶材表面的電磁場分布與靶材刻蝕形貌之間的對應關系的模型,通過外加磁環(huán)來改變靶材表面的電磁場分布,提高靶材的利用率. 本論文的主要結果有:(1)運用模擬程序模擬了氬離子對鎳靶的濺射過程,模擬結果與實驗結果及規(guī)律相符,

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內(nèi)容，請與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論