偏振光直寫相位光柵的試驗(yàn)分析和研究.pdf

1、激光直寫技術(shù)隨著大規(guī)模集成電路的發(fā)展而于20世紀(jì)80年代中期提出，發(fā)展歷史雖不長卻取得了長足的進(jìn)步，各發(fā)達(dá)國家都對激光直寫技術(shù)進(jìn)行了深入的研究并出現(xiàn)了一些專門研制激光直寫系統(tǒng)的廠家。激光直寫技術(shù)也由最初的無掃描的直寫方式，直寫過程以柵格作為行程標(biāo)記發(fā)展成有掃描的直寫方式，基于空間光調(diào)制器逐個圖形掃描而無需行程標(biāo)記。目前，逐點(diǎn)曝光的激光直寫系統(tǒng)已基本成熟，系統(tǒng)的研制傾向于爭取用途的功能開發(fā)與提升。 近年來偶氮聚合物新穎的光學(xué)性能引

2、起了廣泛的重視。在光照作用下，偶氮基元可發(fā)生可逆的順反(tans-cis)異構(gòu)變化。在偏振光作用下，trans異構(gòu)體分子軸向傾向于排列在垂直于入射光電矢量的方向上。還可以在光照下或通過加熱形成cis-trans轉(zhuǎn)變。這種異構(gòu)化作用，引起分子的重取向，可以引起有機(jī)體多種物理性質(zhì)的變化，如溶解度、透光率、介電常數(shù)和折射率等。這類聚合物在光信息領(lǐng)域有著巨大的潛在應(yīng)用前景。 本文基于激光直寫技術(shù)的日益成熟及偶氮材料優(yōu)越的光致異構(gòu)特性，提

3、出了偏振光光強(qiáng)和偏振態(tài)動態(tài)調(diào)節(jié)以控制偶氮聚合物光致雙折射程度的方法?；谶@一思想，本文主要做了以下工作。 1.參照逐點(diǎn)曝光的直寫技術(shù)，加入了利用電光調(diào)制器控制寫入光偏振方向的部分，建立了偏振光直寫系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過共焦部分調(diào)準(zhǔn)對焦，并可控制寫入光光強(qiáng)和偏振態(tài)，為后續(xù)的實(shí)驗(yàn)工作打下了基礎(chǔ)。 2.通過與化學(xué)系的合作，深入研究了偶氮聚合物的光致異構(gòu)特性，并通過實(shí)驗(yàn)比較了不同材料的重復(fù)擦寫能力，選定了最適合實(shí)驗(yàn)的材料，并通過實(shí)驗(yàn)證