電鍍工藝鍍鈀鎳工站教材

1、鈀鎳工站簡介教材,鈀 鎳 工 站 簡 介,一,鈀鎳物質(zhì)介紹 1,鈀鎳合金說明. 2,鈀鎳物質(zhì)的特性二,鈀鎳鍍液的組分與特性三,鈀鎳鍍液的調(diào)整與保養(yǎng). 1,鍍液的調(diào)整. 2,鍍液保養(yǎng)的注意事項.四,鈀鎳槽液的異常處理,鈀鎳合金說明: 1,電子連接制造工業(yè)對元件接觸區(qū)鍍鈀鎳的膜厚,延展性,光亮度,耐磨,耐振動等功能性,都已得到可靠的信賴度.(同時金價比鈀鎳成本要高.使用鈀鎳制程有

2、利于制造成本的降低.) 2,鈀鎳合金鍍層比鈀鍍層當(dāng)作接觸物質(zhì)使用在電子工業(yè)上是更有效率,適當(dāng)量的鎳進入鈀結(jié)晶格子內(nèi)共組成后會降低發(fā)生氫裂解的傾向,并提供更高的硬度,延展性,表面光亮度,.除此外,并強調(diào)鈀鎳合金是非觸媒作用所引起,而是傾向于磨擦合作用所引起的所以比金或鍍鈀有較低的孔性及較好的耐磨阻抗,.所以鈀鎳合金是很好的電器元件接觸物質(zhì).,鈀鎳物質(zhì)的特性; 1,穩(wěn)定的組成,鎳變

3、化從10-50% W 2,明亮如鏡子般的外觀. 3,高硬度. 4,高延展性. 5,可接受的孔性. 6,可接受較高的電鍍厚度. 7,簡單的化學(xué)成形. 8,鍍浴容易控制. 9,鍍浴壽命長. 10,陰極效率高. 11,對非貴金屬素材物質(zhì)應(yīng)減低浸蝕.,鈀鎳的組分與特性,1,氯化氨鈀:

4、 主鹽,驗用于提供電鍍所需的鈀,提升鍍液鈀鹽濃度可提供鍍層中鈀含量,鍍液中鈀濃度一般控制在:18-22g/L.2,鎳補充劑: 主鹽,供給電鍍所需的鎳,提升鍍液中鎳濃度可輕微提升鍍層中鎳含量,但影響遠(yuǎn)比鈀小,一般濃鍍控制在:13-17g/L.3,Brightener NO. 1(侵用于高氨系統(tǒng)) 基本光澤劑,鍍液中含量一般過剩,消耗量低,依哈氏片或廠商技朮人員建議添補.4,Pallnic

5、 Additive (侵用于高氨系統(tǒng)) 依廠商技朮人員建議添補.5,Wetting Agent (侵用于高氨系統(tǒng))6,Conducting Sait. 導(dǎo)電鹽,用于增強鍍液導(dǎo)電能力.,7,NH3?H2O(氨水) 用于調(diào)整鍍液PH值, PH值一般控制在7.5-8.5.8,氫氧化鉀.(侵用于低氨系統(tǒng)) 用于調(diào)節(jié)鍍液PH值, PH值一般

6、控制在7.5-8.5,建議按:氨水:氫氧化鉀以1:2的比例添加.9,Pallnic. 80 Deposit Modifier(侵用于低氨系統(tǒng)) 依廠商技朮人員建議添補.,鍍液調(diào)整與保養(yǎng),1,鈀鹽: 濃度范圍:18-22g/l 目標(biāo)值:20g/l添加量(g)=(20-分析值)*V槽*:每瓶鈀鹽含量為100gor50g.(每安培小時的消耗,應(yīng)補充40%的鈀鹽4g)2,鎳鹽:

7、濃度范圍:13-17g/l 目標(biāo)值:15g/l*鎳補充劑含量100g/l.(每安培小時的消耗,應(yīng)補充100g/1NI濃度2ML)3,PH值. 范圍:7.8-8.5 目標(biāo)值:8.0*PH使用電位計量測,并用50%氨水或20%H2SO4來降低PH值.,鍍液調(diào)整時注意事項,一,葯品調(diào)整:1,固體葯品一般溶解后添加.2,液體葯品一般應(yīng)稀釋后添加.3,加水稀

8、釋時要防止槽液溫度下降.4,合金鍍液中要注意合金濃度比例.5,稀釋某一成分時應(yīng)同時考慮對鍍液中其它成分的影響.二,液位調(diào)整: 1,為了確保分析數(shù)據(jù)的可靠性及代表性,生產(chǎn)人員須提前半小時調(diào)整好液面高度.加熱的槽液補水方式應(yīng)以少加勤加為原則.,鍍液的保養(yǎng),1,當(dāng)鍍液中各種有機雜質(zhì)含量較高時,用活性碳濾芯過濾.2,當(dāng)鍍液中有較大顆粒雜質(zhì)時,用10U”或1U”濾芯過濾.3,鎳,鈀鎳槽中的金屬雜質(zhì)應(yīng)用弱電解除去.4,目前槽外過濾保養(yǎng)

9、計劃是1次/2個月.5,弱電解板打磨為1次/3日.6,每周活性碳過濾3-4小時.7,PH檢測1次/2小時.,鈀鎳槽液的異?，F(xiàn)象及處理,A:鈀鎳污染問題解決方法: ,污染問題通常會在生產(chǎn)線上,低電流密度鍍層區(qū)產(chǎn)生模糊,無光澤,晦暗的現(xiàn)象,為了決定問題根源,采取兩個步驟: 1,取金屬污染溶液,作原子吸收光譜分析.(A.A) 2,作哈氏片試片,確認(rèn)問題的根源,并決定在使用前,如何做最有效的補救處理之道

10、.B:常見的金屬污染. 1,銅污染:小于30PPM的低污染,哈氏片試片在高電流區(qū),產(chǎn)生灰色鍍層,在30-100PPM之間的銅污染下,低電流密度區(qū)會看見間斷性銅顏色的污染.隨著污染程度的增加,漸漸擴及高電流密度區(qū).范圍擴大,銅顏色污染也增加.在超過500PPM下,哈氏片試片從高電流到低電流密度區(qū).一半會出現(xiàn)銅顏色,剩餘會出現(xiàn)白灰,混濁的現(xiàn)象.此不良現(xiàn)象將直接影響鍍層結(jié)晶,造成脫皮.,鉛污染: 鈀鎳顯然可忍受

11、高含量的鉛污染,在100PPM以下,低電流密度區(qū)會產(chǎn)生藍(lán)色或黑色的沾污.鐵污染: 鐵污染從哈氏片試片中觀察的不是很明顯,將傾向于增加鍍層的內(nèi)應(yīng)力.以上污染槽液的處理對策:用低電流(0.025-0.05A)密度電鍍出雜質(zhì)金屬離子是最有效的辦法.(例如:弱電解板),有機污染: 假如原子吸收光譜証明金屬污染不是很明顯,那問題可能 出現(xiàn)在有機污染,哈氏片試片在任何電流密度會發(fā)生鍍層模糊,顏色改變,晦暗的現(xiàn)象.金屬污

12、染傾向于高電流密度下產(chǎn)生,一些有機污染能被活性碳處理去除掉,可從工作浴中取樣品,每升用2g活性碳,并加熱60度過濾去除掉并作哈氏片.如活性碳處理很有效的制程如下: 1,用泵浦將溶液抽入一適當(dāng)?shù)牟圩?假如需要加熱至60度. 2,每升加2g的活性碳. 3,激烈攪拌30分鐘. 4,槽液靜置30分鐘. 5,過濾溶液直到所有活性碳完全去除為止.