離子輔助蒸發(fā)Ti-,3-O-,5-制備光學薄膜的研究.pdf

1、新型薄膜材料對當代高新技術(shù)起著重要的作用，是國際上科學技術(shù)研究的熱門學科之一。光學薄膜作為薄膜材料的一個重要應用領域，在照明、光纖通訊、汽車工業(yè)等都得到了廣泛的應用。氧化鈦薄膜的透明區(qū)為0.35～12μm，氧化鈦薄膜作為光學薄膜應用時有很好的折射率。由于氧化鈦薄膜在可見光區(qū)域折射率高，光學性能穩(wěn)定，被廣泛的應用于減反膜、濾光片、光催化等。Ti3O5是鈦的低價系列氧化物中相對較穩(wěn)定的化合物，具有類金屬特性，在常溫下具有很高的導電性，與傳統(tǒng)

2、的TiO2材料相比，具有阻溫特性好的優(yōu)點。離子束輔助沉積技術(shù)可以使制備的薄膜膜層致密、均勻，提高了薄膜的穩(wěn)定性，從而達到提高薄膜的光學性能和機械性能的目的，是目前常用的一種薄膜制備方法。 本文采用離子束輔助蒸發(fā)Ti3O5法在K9玻璃成功制備了具有良好光學性能的氧化鈦薄膜。研究了制備過程中的主要工藝因素離子源、基片溫度、氧氣流量和沉積速率對薄膜光學性能的影響，用UV-755B分光光度計測試了薄膜的透射率曲線，并用包絡線法計算了薄膜

3、的折射率(n)和消光系數(shù)(k)。結(jié)果顯示，以Ti3O5為初始膜料，采用離子輔助沉積的方法，在蒸氣入射角為0°條件下具有最好的光學性能；氧化鈦薄膜的折射率隨基片溫度的升高而增大；在充分氧化的情況下，折射率隨氧氣流量的減小而增大；氧化鈦薄膜的折射率隨沉積速率的增大而增大。 本文研究了退火對不同基片溫度條件下以Ti3O5為初始膜料制備氧化鈦薄膜的結(jié)構(gòu)及光學性能的影響。采用X射線衍射儀(XRD)檢測薄膜退火處理前后的晶體結(jié)構(gòu)，結(jié)果顯示，