漢畫像磚的劣化機理及保護.pdf

1、漢畫像磚是珍貴的文化遺產(chǎn)。經(jīng)過約兩千年埋藏,地下潮濕的環(huán)境以及土壤中化學成分對磚材的復雜作用,磚材在本質上發(fā)生了很大變化。目前對出土畫像磚的保護僅限于清潔和脫鹽處理,深入的劣化機理研究很少。一些出土畫像磚在館藏期間會出現(xiàn)表面細微裂縫、表面返堿、酥化等,使畫像很快模糊、成片脫落以致消失,失去了文物價值。因此,從微觀上了解漢畫像磚劣化機理,并據(jù)此提出合理的保護措施是極為重要的。
　　本文以出土的畫像磚殘片為研究對象,采用X射線衍射光譜

2、(XRD)、掃描電鏡(SEM)及能量色散X光微區(qū)分析(EDS)等檢測手段分析了畫像磚的微觀結構、礦物學組成等性能,采用國家粘土磚測量標準分析了吸水、抗鹽、抗融凍性能并以現(xiàn)代青磚和紅磚作對比實驗,初步從基礎上了解了畫像磚的劣化機理。實驗表明:漢畫像磚經(jīng)歷兩千多年的埋藏后,墓地環(huán)境中的水分、可溶鹽以及微生物等的作用,使得磚的內部孔隙變大,吸水率增加,其抗壓、抗鹽、抗融凍性能變得都比較差。因此,本文采用了對疏松、多孔文物保護方面性能優(yōu)異的有機

3、硅保護劑對漢畫像磚進行了加固處理。在相關文獻及本實驗組實驗的基礎上,對該有機硅保護劑的實驗工藝進行改進,制得新型的改性有機硅保護劑。實驗采用KH560和KH550在常溫條件下反應,主要考察了KH560和KH550的比例和H2O的加入量對膜的親水性、附著力的影響,優(yōu)化得到實驗的最佳配比,即KH560:KH550:H2O=10:1:2.4(體積比),以濃鹽酸為催化劑,其量為總量的1％-2％。將合成的保護劑用于漢畫像磚的保護,保護后研究發(fā)現(xiàn):