偶氮苯聚合物光致異構(gòu)Z掃描研究.pdf

1、自上世紀90年代Sheik等人提出z掃描技術(shù)以來，由于實驗裝置簡單，靈敏度高等優(yōu)點，該技術(shù)在材料光學參數(shù)測量方面得到廣泛應用。本論文針對聚合物光致異構(gòu)效應的特點，在較寬的應用條件下，從理論上研究了光致異構(gòu)效應對聚合物折射率改變的影響，并在此理論基礎(chǔ)上改進了測量技術(shù)，從新的角度研究角度極化參數(shù)CT0，Cis-Trans狀態(tài)躍遷比率β和暗光強γ等對光致異構(gòu)效應的定量影響。此外，本文還借助Z掃描測量技術(shù)，研究了目前在光信息處理方面有著廣泛應用

2、前景的DR13／PMMA摻雜偶氮苯聚合物材料的光致異構(gòu)特性，分析生色團摻雜濃度(重量濃度)對材料光致異構(gòu)效應的影響。 本文由光致異構(gòu)過程的“角度燒孔”模型出發(fā)，直接推導適用光強范圍更廣的折射率變化公式，彌補了前人折射率改變公式只能適用于低光強條件之不足；本文引入角度極化參數(shù)CT0，Cis-Trans狀態(tài)躍遷比率β和暗光強γ等三個表征材料特性的參數(shù)。對這三個材料特征參數(shù)的測量分析可以對有機聚合物的光致異構(gòu)效應進行定量的研究，有助于