偶氮苯聚合物光致異構(gòu)引起的折射率改變的Z掃描法研究.pdf

1、測(cè)量光學(xué)非線性的Z-掃描法自從1989年由Sheik等人提出以來(lái),由于其實(shí)驗(yàn)裝置簡(jiǎn)單,而靈敏度又高等優(yōu)點(diǎn)得到迅速的推廣和應(yīng)用.從研究的非線性效應(yīng)來(lái)看,Z掃描法以往主要用于研究光克爾效應(yīng)、光折變效應(yīng)和可飽和三階非線性效應(yīng).該文把Z掃描法推廣到對(duì)光致異構(gòu)引起的折射率改變效應(yīng)的研究.偶氮苯聚合物的光致異構(gòu)是一種很重要的光化學(xué)性質(zhì),幾十年來(lái)一直是光子學(xué)領(lǐng)域的一個(gè)研究熱點(diǎn).光致異構(gòu)能夠引起材料的折射率的改變,該文基于光致異構(gòu)過(guò)程的一個(gè)模型——"角

2、燒孔"機(jī)制,推導(dǎo)出光致異構(gòu)引起的折射率改變公式.對(duì)于激發(fā)光是線偏振光和圓偏振光(或無(wú)偏振光)的情況,該公式形式上和可飽和三階非線性折射率改變公式一樣.對(duì)線偏振光:△n=n2Is I/I+Is;對(duì)圓偏振光或非偏振光:△n=n'2I's I/I+I's;且n2=1.5n'2.該文針對(duì)上述折射率改變公式推導(dǎo)出一個(gè)Z掃描曲線擬合公式,并用Z掃描法對(duì)摻雜偶氮苯化合物DRl3的PMMA薄膜進(jìn)行了實(shí)驗(yàn).從總體上來(lái)說(shuō),實(shí)驗(yàn)結(jié)果與理論分析的結(jié)果符合得較好