2023年全國(guó)碩士研究生考試考研英語一試題真題（含答案詳解+作文范文）_第1頁
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文檔簡(jiǎn)介

1、本文采用磁控濺射法制備了三種結(jié)構(gòu)的Al-CuO復(fù)合薄膜，分別為CuO-Al兩層膜、CuO-Al-CuO三層膜、CuO-Al-CuO-Al四層膜。分別進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征、元素分析和熱分析，并分別測(cè)試三種復(fù)合薄膜的電爆特性。
　　 掃描電子顯微鏡(SEM)對(duì)多層薄膜表面及斷面進(jìn)行形貌的觀察表明薄膜表面顆粒直徑隨著薄膜層數(shù)的增加逐漸增大，Al膜晶粒呈放射狀向外生長(zhǎng)，CuO膜晶粒以層狀模式生長(zhǎng)，膜層厚度增長(zhǎng)均勻，多層膜有明顯層間結(jié)構(gòu)；原子力顯

2、微鏡(AFM)對(duì)薄膜表面粗糙度分析表明薄膜表面平整、粗糙度不超過1nm；電子能譜(EDS)分析表明多層薄膜成分純凈，雜質(zhì)只有空氣中吸附的C元素，薄膜純度超過90％；X射線衍射(XRD)對(duì)CuO-Al二層復(fù)合膜分析表明CuO膜會(huì)使Al膜的X衍射角(2θ)發(fā)生2.5°的偏移；差式掃描量熱法-熱重法(DSC-TG)聯(lián)用熱分析表明多層薄膜在500℃到750℃有兩個(gè)反應(yīng)引起的放熱峰。
　　 對(duì)三種復(fù)合薄膜的電爆試驗(yàn)，分析伏安特性曲線和溫度

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