用于沖擊片雷管的Al-CuO反應(yīng)含能橋膜研究.pdf

1、本文主要研究了Al/CuO復(fù)合膜材料的使用對(duì)傳統(tǒng)沖擊片雷管中爆炸箔性能的影響。采用射頻磁控濺射工藝,制備了Al/CuO復(fù)合膜材料,利用XRD、FESEM、SPM及DSC等分析方法對(duì)材料性能進(jìn)行了表征;采用標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,制備了五種不同種類的復(fù)合橋箔,并利用自制起爆回路,對(duì)橋箔的電爆性能進(jìn)行了測(cè)試;最后,利用聚偏氟乙烯(PVDF)薄膜的壓電效應(yīng),測(cè)定了五種橋箔驅(qū)動(dòng)飛片的平均速度。主要研究結(jié)果如下:
　　 (1)XRD結(jié)果顯示,所制備

2、Al/CuO復(fù)合膜材料純度很高,未檢測(cè)到Al2O3及CuxO峰。FESEM觀測(cè)表明,復(fù)合膜材料表面顆粒較均勻,顆粒度為20nm-50nm,復(fù)合膜層間結(jié)構(gòu)分明,成膜質(zhì)量良好。SPM3D粗糙度分析顯示,復(fù)合膜表面的平均粗糙度僅為0.44nm,均方根粗糙度僅為0.55nm。熱分析結(jié)果表明,在Al/CuO調(diào)制比1:2時(shí),反應(yīng)放熱量2024kJ/g,兩個(gè)放熱峰的活化能分別為256.8 kJ/mol,339.2 kJ/mol。
　　 (2)

3、電爆伏安曲線表明,A類Cu橋膜、B類Cu/Al/CuO復(fù)合橋膜的匹配電容器充電電壓在400V-600V之間,C類Cu橋膜、D類Cu/Al/CuO復(fù)合橋膜在600V-800V之間。高速攝影顯示,添加有Al/CuO的復(fù)合橋膜,電爆過程都伴有激烈的燃燒現(xiàn)象。原子發(fā)射光譜雙譜線法測(cè)溫表明,充電電壓600V時(shí),C類橋膜、D類橋膜以及E類Al/CuO復(fù)合橋膜的電爆電子激發(fā)溫度分別為4500K-6000K、6000K-7500K及9000K-1000