已閱讀1頁(yè),還剩38頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀
版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶(hù)提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、 本文用苯作工作氣體,在一個(gè)微波電子回旋共振(ECR)放電等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)中制備了含氫非晶碳膜(a-C:H)。對(duì)苯等離子體作了質(zhì)譜分析,發(fā)現(xiàn)苯分解后形成的主要基團(tuán)是C2H4等,而不是常規(guī)甲烷放電的CH3,這將影響膜的結(jié)構(gòu)。實(shí)驗(yàn)中還考察了沉積參數(shù),如功率、氣壓、流量、基片溫度對(duì)膜的沉積速率的影響。它指出:沉積速率隨微波功率、氣壓和流量的增加而上升;隨溫度的升高先升后降,存在極值。對(duì)制備的膜作了氫含量、IR、Raman譜等測(cè)試,結(jié)
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶(hù)所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶(hù)上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶(hù)上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶(hù)因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 非晶碳膜的制備和研究.pdf
- MW-ECR CVD制備氫化非晶硅薄膜之光電特性研究.pdf
- 用磁控濺射方法制備非晶碳膜-硅異質(zhì)結(jié)及其電輸運(yùn)性質(zhì)的研究.pdf
- 沉積溫度對(duì)氟化非晶碳薄膜結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的影響.pdf
- 基于CVD法制備單層石墨烯工藝參數(shù)的優(yōu)化.pdf
- 納米非晶碳膜的制備及場(chǎng)發(fā)射性能的研究.pdf
- CVD法制備定向納米碳管及其表征.pdf
- MWECR CVD制備氫化非晶硅薄膜的微結(jié)構(gòu)研究.pdf
- 鈀-非晶碳膜-硅異質(zhì)的制備及其電學(xué)特性研究.pdf
- 基體偏壓對(duì)hipims制備非晶碳膜結(jié)構(gòu)和光電性能的影響
- 納米碳管的CVD法制備及其化學(xué)鍍膜研究.pdf
- 脈沖激光沉積法制備PZT鐵電薄膜及實(shí)驗(yàn)參數(shù)對(duì)成膜特性的影響.pdf
- 耐氧化多元非晶碳膜的基層金屬優(yōu)化及制備表征.pdf
- 電沉積法制備細(xì)晶銅的微成形性能.pdf
- CVD法制備ZnO多晶顆粒膜及其紫外發(fā)光性質(zhì).pdf
- 6434.非晶碳氮膜的制備及其摩擦磨損性能的研究
- 遲滯氧化型非Cr組元摻雜非晶碳膜的制備及性能研究.pdf
- 定向碳納米管、摻硼碳納米管的ECR-CVD法制備與表征.pdf
- 磁控濺射參數(shù)對(duì)含鉻類(lèi)石墨碳膜沉積速率、組織與性能影響的研究.pdf
- 電泳沉積法制備新型納米鋁熱劑膜的研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論