版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、聚(偏氟乙烯-三氟乙烯)(P(VDF-TrFE》是最受歡迎的聚合物鐵電材料之一,其結(jié)晶行為直接決定材料的最終鐵電性能。P(VDF-TrFE)熔融重結(jié)晶后一般形成分子鏈垂直于基底的flat-on片晶,沒(méi)有鐵電性能。本文通過(guò)硅基單層石墨烯的基底作用和真空蒸鍍碳膜的方法調(diào)控了P(VDF-TrFE)熔融重結(jié)晶后分子鏈平行于基底方向的edge-on取向,該取向有利于鐵電極化性能,同時(shí)拓寬了鐵電存儲(chǔ)器件的加工溫度窗口。
首先研究了熔融溫度
2、對(duì)單層石墨烯基底上P(VDF-TrFE)薄膜熔融重結(jié)晶后的結(jié)晶及鐵電性能的影響。結(jié)果表明,P(VDF-TrFE)在不同熔融溫度下熔融重結(jié)晶均生成edge-on的棒狀晶體,且棒狀晶體隨熔融溫度的提高而不斷增長(zhǎng)變寬,形態(tài)差異明顯。壓電響應(yīng)力顯微鏡(PFM)測(cè)試結(jié)果顯示,熔融溫度不影響P(VDF-TrFE)的矯頑電壓,但對(duì)代表鐵電極化性能的d33值影響很大。當(dāng)熔融溫度為150℃時(shí),P(VDF-TrFE)的鐵電極化強(qiáng)度最高。
將150
3、℃作為熔融溫度,研究了結(jié)晶溫度對(duì)單層石墨烯基底上P(VDF-TrFE)薄膜熔融重結(jié)晶后的結(jié)晶及鐵電性能的影響。結(jié)果表明,P(VDF-TrFE)薄膜熔融重結(jié)晶后均可得到在面內(nèi)各向同性分布的edge-on取向的長(zhǎng)棒狀晶體,矯頑電壓和d33值對(duì)結(jié)晶溫度均具有依賴性。當(dāng)結(jié)晶溫度為128℃時(shí),P(VDF-TrFE)的鐵電極化性能最高,這是因?yàn)樵谧羁旖Y(jié)晶溫度時(shí)等溫結(jié)晶能獲得最高的結(jié)晶度。
在P(VDF-TrFE)薄膜表面真空蒸鍍的碳膜能夠
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- P(VDF-TrFE)鐵電薄膜的制備及性能表征.pdf
- 有機(jī)鐵電P(VDF-TrFE)薄膜的制備及鐵電性能研究.pdf
- 鐵酸鉍與P(VDF-TrFE)鐵電薄膜的制備及性能研究.pdf
- P(VDF-TrFE)鐵電薄膜摻雜特性研究.pdf
- 鈣鈦礦鐵電納米片誘導(dǎo)的 P(VDF-TrFE)薄膜的取向生長(zhǎng)、微結(jié)構(gòu)及其性能研究.pdf
- 鐵電聚合物P(VDF-TrFE)納米結(jié)構(gòu)的制備及其應(yīng)用研究.pdf
- 弛豫型鐵電聚合物P(VDF-TrFE)的性能研究.pdf
- 通過(guò)納米顆粒摻雜和機(jī)械彎曲形變調(diào)控P(VDF-TrFE)鐵電薄膜的電光性能.pdf
- 鐵電共聚物P(VDF-TrFE)的性能和換能器的模擬研究.pdf
- 鐵電高分子P(VDF-TrFE)納米受限行為研究.pdf
- 納米壓印制作P(VDF-TrFE)鐵電微納圖形.pdf
- 高度取向鈦鐵酸鉍鉍層結(jié)構(gòu)鐵電薄膜的磁控濺射制備及其性能研究.pdf
- 鐵基非晶薄膜的制備及其結(jié)構(gòu)性能研究.pdf
- CIS薄膜的電沉積法制備及其結(jié)構(gòu)性能.pdf
- 多層鐵電薄膜的制備及其電性能研究.pdf
- 高性能鐵電薄膜制備、結(jié)構(gòu)與性能研究.pdf
- 鈦酸鉍基鐵電薄膜的取向控制與性能研究.pdf
- 高度擇優(yōu)取向鐵電鈮酸鍶鋇薄膜的制備及其性能研究.pdf
- 新型PST鐵電薄膜的制備及其性能研究.pdf
- 鈦酸鍶鋇系鐵電薄膜材料特性及其移相器結(jié)構(gòu)性能仿真研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論