檸檬酸鹽對(duì)鈦表面電化學(xué)沉積納米羥基磷灰石涂層的影響.pdf

1、為了提高在鈦表面電化學(xué)法制備羥基磷灰石(HA)涂層的結(jié)合強(qiáng)度和均勻性，本文參考在電鍍過程中加入修飾劑提高鍍層質(zhì)量的方法，向電解液中加入檸檬酸鹽作為修飾劑以期獲得質(zhì)量?jī)?yōu)良的HA涂層，并對(duì)此對(duì)做出理論分析并指導(dǎo)實(shí)際生產(chǎn)。
　　 電沉積HA涂層主要涉及兩個(gè)相繼的反應(yīng)：一是陰極析氫；二是析氫導(dǎo)致鈦電極附近pH升高，繼而使溶液中鈣磷離子達(dá)到過飽和而在陰極析出。本文就以檸檬酸根對(duì)此兩步反應(yīng)的影響為突破口。首先，側(cè)重理論分析了檸檬酸根在鈦電極

2、表面吸附后對(duì)陰極析氫的影響：發(fā)現(xiàn)加入檸檬酸根后陰極析氫速率減小，生成的氫氣泡體積小且在陰極表面分布均勻，有助于沉積電流均勻分布且減少氣泡對(duì)涂層的沖刷。在第二步反應(yīng)中，本文用分光光度計(jì)法測(cè)試涂層的重量變化，用SEM觀察微觀形貌發(fā)展，用電化學(xué)工作站記錄電流曲線，并綜合以上信息首次對(duì)含檸檬酸根涂層的沉積過程做出階段性劃分：吸附期、孕育期、爆發(fā)生長(zhǎng)期、次層生長(zhǎng)期和平衡期。對(duì)各階段的晶體形貌變化和微觀反應(yīng)機(jī)理做出化學(xué)和熱力學(xué)解釋，并建立沉積模型。