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文檔簡介
1、MgO薄膜具有很多優(yōu)良的性質,例如良好的化學穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性,并且在室溫下與多數(shù)鈣鈦結構的鐵電材料有相近的晶格常數(shù),非常適合作為一些功能氧化物薄膜材料與半導體襯底之間的緩沖層,從而有效的緩解兩者之間的晶格失配、防止產生擴散現(xiàn)象,在微型電子元器件領域具有廣闊的應用前景。
本文采用自制的超聲噴霧熱解裝置,以稀HNO3和MgO粉末配置的Mg(NO3)2水溶液為前驅液,石英基片作為襯底制備了MgO薄膜,并利用X射線衍射(XRD)、掃描
2、電子顯微鏡(SEM)、紫外可見光分光光度計(UV-VIS)對MgO薄膜的晶體結構及性能進行了表征。研究了襯底溫度對MgO薄膜晶體結構、表面形貌及其光學特性的影響規(guī)律,探索了退火處理對MgO薄膜的晶體結構和表面形貌的影響。
實驗表明,當襯底溫度不超過650℃時,隨著襯底溫度的提高,MgO薄膜的結晶性能變好,晶粒尺寸變大,表面更加致密平整。當襯底溫度過高時,會造成 MgO晶粒大小懸殊, MgO薄膜致密性下降。光學特性的分析結果表明
3、,隨著襯底溫度的升高,MgO薄膜光透射率隨之升高,這些結果均可以通過反映機理得到比較完善的解釋。因此可以看出襯底溫度對MgO薄膜的晶體結構,表面形貌以及光學特性有顯著影響,是調控MgO薄膜結構和光學特性的有效手段。對MgO薄膜進行退火處理后發(fā)現(xiàn)該工藝可以在一定程度上改善MgO薄膜的結晶質量,處理后的MgO薄膜的晶粒尺寸明顯變大,MgO晶粒變得圓潤,排列更加致密,表面更平整,薄膜的結晶質量改善。可見,退火處理可以有效的優(yōu)化MgO薄膜晶體結
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