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文檔簡介
1、光子晶體是由不同介電常數(shù)的周期性電介質(zhì)材料組成的,由于其獨特的光子禁帶性質(zhì),廣泛應(yīng)用在光學(xué)器件、光集成、探測和紅外傳感器等領(lǐng)域。目前多種制備方法中,光電化學(xué)腐蝕法以其低成本、工藝簡單、制作周期短和可控性強(qiáng)等優(yōu)點,具有更實際的應(yīng)用價值。
本文采用三角晶格排列的掩膜板結(jié)構(gòu),應(yīng)用硅光電化學(xué)腐蝕與半導(dǎo)體微細(xì)加工工藝相結(jié)合的方式,在n型(100)晶向背面磷摻雜的硅襯底上制備三維光子晶體。研究了腐蝕時間與通道長度的關(guān)系以及光電流與孔徑的關(guān)
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