激光快速退火對NiMn-NiFe雙層膜結(jié)構(gòu)和磁性能的影響.pdf

1、利用高真空磁控濺射鍍膜機制備了Mn原子含量在50～55at％的NiMn薄膜，并在此基礎上沉積了磁性雙層膜。分析了濺射氣壓、濺射功率、基體負偏壓、靶基距、基體溫度等濺射工藝參數(shù)對薄膜成分的影響特點，并研究了常規(guī)退火處理和激光快速退火處理對樣品的交換偏置場(Hex)和矯頑力(Hc)等磁性能的影響規(guī)律和作用機理。研究結(jié)果表明:
　　對于NiMn薄膜而言，隨著濺射氣壓的升高，Mn原子含量先降低后升高，并在0.8Pa達到最大值后逐漸穩(wěn)定;隨

2、著基體負偏壓的升高，Mn原子含量呈下降趨勢;隨著靶基距的增大，Mn原子含量逐漸升高，并在55mm左右趨于穩(wěn)定;隨著基片溫度的升高，Mn含量逐漸增加，在150℃時達到最大值后逐漸穩(wěn)定;濺射功率對Mn原子含量影響效果不明顯。而NiFe薄膜的成分隨濺射條件的變化較小。
　　在兩種退火條件下，NiMn薄膜都能發(fā)生由γ相轉(zhuǎn)變?yōu)棣认嗟南嘧兊倪^程，并且Hex大小與θ相的轉(zhuǎn)變量呈正相關(guān)。在常規(guī)退火處理下，θ相的轉(zhuǎn)變量隨著退火溫度、退火時間變化，在