基于8~11μm紅外窗口系統(tǒng)中減反射與保護(hù)膜的研制.pdf

1、分類號(hào)：Q堡壘UDC：密級(jí)：可公開編號(hào)：基于8～11um紅外窗口系統(tǒng)中減反射與保護(hù)膜的研制Designandpreparationofantirenectionandprotective置ilmin8～11pminfrareddetectionsystem學(xué)位授予單位及代碼：長春理工大學(xué)(10186)研究方向：堡垡迸堂撞苤丞王捏應(yīng)旦申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別：亟論文起止時(shí)間：201211—20131l研究生：楊金也摘要隨著現(xiàn)代軍事空間技術(shù)的快速發(fā)展，

2、對(duì)紅外探測(cè)器的要求越來越高。同時(shí)，對(duì)紅外光學(xué)元件的要求也越來越苛刻。本文主要研究硫化鋅(ZnS)基底表面減反與保護(hù)膜的制備技術(shù)，采用介質(zhì)膜與硬膜復(fù)合方法，通過對(duì)不同材料的對(duì)比分析，最終選取碳化鍺(Ge。C。)材料作為介質(zhì)膜與DLC類金剛石保護(hù)膜的過渡層。利用電子柬與離子源輔助沉積技術(shù)制備介質(zhì)膜；磁控濺射技術(shù)制備過渡層碳化鍺；化學(xué)氣相沉積技術(shù)制備DLC類金剛石保護(hù)膜，解決了介質(zhì)膜與類金剛石保護(hù)膜應(yīng)力匹配的問題，并通過對(duì)多種沉積工藝的整合，