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文檔簡介
1、作為重要的大氣窗口,8μm~12μm是常用的紅外波段,涵蓋了常用的發(fā)動機(jī)、驅(qū)動設(shè)備和燃?xì)獾葻嵩此l(fā)出的紅外波波長范圍。常用于探測車輛、飛機(jī)和艦艇等目標(biāo)。
本文所進(jìn)行的工藝研究是針對某型直升機(jī)機(jī)載觀瞄系統(tǒng)中紅外光學(xué)元件的減反射膜鍍膜加工。系統(tǒng)中紅外光學(xué)元件所使用的基板材料有鍺(Ge)和硒化鋅(ZnSe)兩種,對薄膜的技術(shù)要求為:8μm~12μm范圍內(nèi)平均透射率不小于95%。
針對要求,參考紅外減反射光學(xué)薄膜的常用加工方
2、式,并考察已有的鍍膜、測量設(shè)備和具備的其他條件。確定選擇在真空狀態(tài)下使用電阻熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)這種最為常見和經(jīng)濟(jì)的沉積方式來沉積薄膜材料,同時利用離子源輔助沉積技術(shù)用以提高所制備光學(xué)薄膜的物理特性。
在確定了試驗方式后,編制了試驗方案:首先,依照經(jīng)典薄膜理論中減反射膜的光學(xué)原理,確定了薄膜的初始模型。然后,分析了常用的紅外薄膜材料的具體性能,并根據(jù)需要對材料進(jìn)行了選擇。選取了真空度、溫度等影響材料特性的過程參數(shù)并在確定的狀態(tài)下
3、得出優(yōu)選材料的材料參數(shù),并將材料參數(shù)導(dǎo)入膜系軟件中。最后,選擇適當(dāng)?shù)膬?yōu)化方式對初始膜系設(shè)計進(jìn)行了進(jìn)一步的優(yōu)化,設(shè)計出較為理想的膜系結(jié)構(gòu)設(shè)計方案。
在鍺(Ge)和硒化鋅(ZnSe)兩種材料基底上將確定的試驗方案分別進(jìn)行了試驗,并對試驗結(jié)果進(jìn)行光譜及耐受測試。測試結(jié)果為:在8μm~12μm范圍內(nèi),鍺(Ge)和硒化鋅(ZnSe)基底上平均透射率分別為96.1%和97.8%,并且能夠承受耐高溫、濕熱等惡劣環(huán)境的測試。在鍺(Ge)和硒化
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