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1、該文從理論和實(shí)驗(yàn)兩個(gè)方面討論了高反膜的設(shè)計(jì)以及其在真空環(huán)境中的制備.從Maxwell方程組入手,推導(dǎo)了薄膜的特征矩陣,建立了計(jì)算膜系內(nèi)外表面電場(chǎng)強(qiáng)度和磁場(chǎng)強(qiáng)度的導(dǎo)納矩陣,分別對(duì)單層及多層薄膜的反射率變化建立了理論模型.對(duì)經(jīng)典的規(guī)整膜系進(jìn)行優(yōu)化計(jì)算后,設(shè)計(jì)出高反膜膜系.理論分析與計(jì)算結(jié)果表明,23層Ti<,2>O<,5>/SiO<,2>膜系是最優(yōu)化的設(shè)計(jì)結(jié)果,在工作區(qū)間內(nèi)能夠達(dá)到理想的反射效果.此外,對(duì)薄膜的損耗問(wèn)題進(jìn)行了探討,找到了降低
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