有機硅導(dǎo)熱絕緣復(fù)合材料的制備及其性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、超高亮度的LED已成為了目前新一代的綠色環(huán)保固體光源,但隨著LED器件不斷向高功率化、體積微型化發(fā)展,芯片的工作結(jié)溫不斷升高,嚴重影響了LED燈具的出光效率、可靠性、壽命、光色等性能指標,散熱問題已成為其發(fā)展進程上的主要瓶頸。為了解決LED芯片的散熱問題,開發(fā)能滿足封裝材料性能的導(dǎo)熱絕緣復(fù)合材料勢在必行。有機硅樹脂因其優(yōu)異的熱穩(wěn)定性、電絕緣性、耐老化性等優(yōu)點,正在逐步取代傳統(tǒng)的聚氨酯、環(huán)氧樹脂等材料,而成為電子封裝領(lǐng)域的新材料。但有機硅

2、樹脂的導(dǎo)熱系數(shù)很低,常需要填充導(dǎo)熱填料來增大其導(dǎo)熱性能,因此開發(fā)填充型有機硅樹脂基導(dǎo)熱絕緣復(fù)合材料有很大的應(yīng)用價值。
  以甲基三氯硅烷、苯基三氯硅烷、甲基乙烯基二氯硅烷為原料,經(jīng)水解-擴鏈-縮聚合成了甲基苯基乙烯基有機硅樹脂(簡寫為SR),測得其導(dǎo)熱系數(shù)為0.401 W/(m·K),體積電阻率為8.707×1015Ω·cm。以所合成的SR為基體,通過添加Al2O3、BN、Si3N4、AlN和SiC制備出了系列有機硅導(dǎo)熱復(fù)合材料,

3、發(fā)現(xiàn)所得復(fù)合材料的導(dǎo)熱系數(shù)均比有機硅樹脂基體的導(dǎo)熱系數(shù)有所提高,其中SR/SiC復(fù)合材料與SR/AlN復(fù)合材料的導(dǎo)熱系數(shù)均達到了有機硅樹脂基體的二倍以上,且二者數(shù)值相近,但AlN價格更經(jīng)濟,更適合用于制備導(dǎo)熱復(fù)合材料。
  對于SR/AlN復(fù)合材料體系,研究了填料用量、填料粒徑對其導(dǎo)熱性能及電絕緣性能的影響規(guī)律,其中SR/AlN復(fù)合材料的導(dǎo)熱系數(shù)隨AlN用量的增加而增大,其體積電阻率則隨之減小;在0.03,2及5μm三種粒徑的Al

4、N填料中,2μm粒徑AlN填充下的復(fù)合材料導(dǎo)熱系數(shù)最高,0.03μm粒徑AlN填充下的復(fù)合材料體積電阻率最大。通過Agari模型對SR/AlN復(fù)合材料的導(dǎo)熱系數(shù)進行模擬計算,并與實驗值對比分析可知,三種粒徑制備的復(fù)合材料體系均可與Agari模型取得較好的一致性。
  此外,還研究了混雜填料中填料復(fù)配比例對復(fù)合材料導(dǎo)熱性能及電絕緣性能的影響。當(dāng)總填料為60份時,在BN∶AlN為4∶6的體積比下,復(fù)合材料的導(dǎo)熱性能最佳,其導(dǎo)熱系數(shù)值為

5、1.885 W/(m·K);而隨著復(fù)配填料中BN用量的增加,SR/BN/AlN復(fù)合材料的體積電阻率逐漸增大
  由于導(dǎo)熱填料在有機硅樹脂中存在團聚現(xiàn)象,為了改善填料與硅樹脂基體間的相容性,使用硅烷偶聯(lián)劑KH-550對AlN粉體進行了改性處理,并填充到有機硅樹脂基體中制備了改性導(dǎo)熱復(fù)合材料,利用正交實驗設(shè)計法,研究了改性工藝對改性復(fù)合體系導(dǎo)熱系數(shù)、體積電阻率的影響。正交實驗設(shè)計分析表明,在SR/m-AlN改性復(fù)合材料體系中,硅烷偶聯(lián)

6、劑用量對改性復(fù)合體系的導(dǎo)熱系數(shù)和體積電阻率有著極顯著的影響,在實驗所研究的1%~4%的用量范圍內(nèi),當(dāng)偶聯(lián)劑用量為3%時可同時取得導(dǎo)熱系數(shù)最大值和體積電阻率最小值。改性時間對改性復(fù)合體系的導(dǎo)熱系數(shù)和體積電阻率均有較為顯著的影響。對AlN進行3小時的改性處理可獲得導(dǎo)熱系數(shù)最優(yōu)的產(chǎn)物,對AlN進行2小時的改性處理可獲得體積電阻率最優(yōu)的產(chǎn)物。而改性溫度只對改性復(fù)合體系的導(dǎo)熱系數(shù)有較為顯著的影響,并在在改性溫度為60℃時取得導(dǎo)熱系數(shù)最優(yōu)值。

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