YVO4-Eu3+@YVO4核殼結(jié)構(gòu)納米發(fā)光材料中Eu3+熱擴(kuò)散的研究.pdf

1、長期以來，人們采用表面修飾的方法來削弱表面效應(yīng)、提升納米材料的發(fā)光效率，而在眾多的表面修飾方法中，核殼結(jié)構(gòu)是一種十分有效的方法。殼層的包覆可以提供一個保護(hù)層，將發(fā)光中心與外界的環(huán)境隔絕開來，阻斷發(fā)光中心與表面猝滅中心的能量傳遞途徑，從而有效的降低表面猝滅的程度，提升材料的發(fā)光效率。大量的研究工作圍繞著殼層厚度的優(yōu)化而展開，在這個過程中，人們發(fā)現(xiàn)了核殼結(jié)構(gòu)納米材料中的離子擴(kuò)散現(xiàn)象。如果核殼結(jié)構(gòu)納米顆粒中的摻雜離子穿過殼層從納米顆粒的核心中

2、擴(kuò)散到了表面，表面效應(yīng)和表面猝滅將會重現(xiàn)，那么殼層的保護(hù)作用將失去意義。因此，離子擴(kuò)散可能會對核殼結(jié)構(gòu)納米材料的發(fā)光性能造成重大影響。研究并了解核殼結(jié)構(gòu)納米材料中摻雜離子在多高的溫度下能夠發(fā)生何種程度的擴(kuò)散，以及這種擴(kuò)散會對材料的發(fā)光性能造成什么樣的影響，是非常有必要的。
　　本論文的研究主要包括以下三個部分:
　?。ㄒ唬┎捎霉渤恋矸ㄖ苽鋂VO4∶Eu3+納米顆粒和不同殼層厚度的YVO4∶Eu3+@YVO4核殼結(jié)構(gòu)納米顆粒。

3、通過X射線粉末衍射，透射電子顯微鏡，光譜測試等手段對其形貌、大小以及發(fā)光性能進(jìn)行表征，驗證不同殼層厚度對核殼結(jié)構(gòu)納米顆粒發(fā)光性能的影響。
　?。ǘ┰诒Ｗo(hù)條件下對YVO4∶Eu3+@YVO4核殼結(jié)構(gòu)納米顆粒進(jìn)行熱處理，既要確保納米顆粒之間不發(fā)生團(tuán)聚，又要能夠促使核心中的Eu3+向外擴(kuò)散。然后以發(fā)光光譜以及發(fā)光衰減的測試和擬合為主要手段，表征出不同熱處理階段下Eu3+的擴(kuò)散程度。
　?。ㄈ┎捎肕onte Carlo方法對YV

4、O4∶Eu3+@YVO4核殼結(jié)構(gòu)納米顆粒中Eu3+的擴(kuò)散過程以及發(fā)光衰減過程進(jìn)行計算機(jī)模擬，并與實際測試得到的數(shù)據(jù)進(jìn)行比對，獲取擴(kuò)散過程中的各項參數(shù)。
　　這些研究能夠讓人們對YVO4∶Eu3+@YVO4核殼結(jié)構(gòu)納米顆粒中Eu3+的擴(kuò)散有一個比較直觀的印象，有助于深化對表面效應(yīng)和濃度猝滅效應(yīng)的認(rèn)識。所獲取的數(shù)據(jù)可以作為其他核殼結(jié)構(gòu)納米材料的制備和應(yīng)用的有益參考，也希望能夠為高溫條件下設(shè)計和制備高發(fā)光效率的核殼結(jié)構(gòu)納米材料拓寬思路、