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文檔簡介
1、窗口層在p-i-n型太陽電池中起著一個(gè)重要的作用。本論文采用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),首先在玻璃襯底上制備了光學(xué)帶隙為2.46eV的氫化非晶碳化硅(a-SiC:H)薄膜,并利用臺(tái)階儀、X射線光電子譜(XPS)、紫外可見光譜(UV-VIS)等技術(shù)手段實(shí)驗(yàn)研究了射頻功率、襯底溫度、反應(yīng)壓強(qiáng)和氣體流量對薄膜的生長速率、結(jié)構(gòu)成分和光學(xué)帶隙的影響。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),光學(xué)帶隙隨著上述條件而變化。以B2H6為摻雜劑,利用原位摻雜制備了電導(dǎo)率
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