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文檔簡介
1、為滿足589 nm黃光激光器聚光元件上雙波段減反膜的使用要求，即在589 nm反射率要求控制在2％～3％之間、1064 nm反射率小于1％。本文以Ta2O5和SiO2為鍍膜材料，以減反膜的設計理論為基礎，分別設計了周期膜系減反射膜和非周期膜系減反射膜。并根據(jù)實驗得到的光學常數(shù)使用TFC膜系設計軟件對非周期膜系進行了優(yōu)化。薄膜的制備運用電子束蒸發(fā)和離子束輔助沉積方法，通過調(diào)整沉積速率、離子源參數(shù)、充氧量、基底溫度等工藝參數(shù)，解決了兩個波段
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