2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩66頁未讀 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

1、半導體納米復合薄膜將納米粒子以一定的方式構(gòu)建在半導體薄膜中,兼具納米粒子和半導體薄膜的雙重特性,在材料性能改良和新材料體系研發(fā)方面具有獨特的優(yōu)勢,非常有希望獲得實際應用。AZO(Al摻雜ZnO)及AlN作為典型的新一代寬禁帶光電半導體,在信息技術(shù)領(lǐng)域占有舉足輕重的地位。Co是重要的磁性材料,其摻雜研究是近年來半導體納米薄膜性能調(diào)制的熱點之一。通過Co摻雜不僅可以實現(xiàn)AZO及AlN薄膜微觀結(jié)構(gòu)和光電性能的調(diào)控,還能將其應用范圍拓展到磁學領(lǐng)

2、域,這在器件領(lǐng)域具有重要意義。
  本文采用對靶直流磁控濺射交替沉積技術(shù)在不同Co靶電流下分別沉積了Co/AZO及Co/AlN納米復合薄膜,研究了Co靶電流及真空退火對薄膜的相結(jié)構(gòu)、微觀結(jié)構(gòu)及光電性能的影響。實驗結(jié)果表明:
  隨著Co靶電流增加,沉積態(tài)Co/AZO納米復合薄膜的結(jié)晶程度降低,電阻率及光學透過性能均下降。納米復合薄膜真空退火后結(jié)晶程度和光電性能明顯提高。隨著Co靶電流增加,Co在退火態(tài)薄膜中的存在形式經(jīng)歷了由

3、摻雜型復合層→分散金屬大顆粒層→準連續(xù)金屬層的變化。當Co靶電流較低時,Co全部溶解在基體中,薄膜導電性隨Co靶電流增加明顯改善,而透過率僅略微降低,實驗獲得的光電性能匹配最佳的納米復合薄膜可見光透過率約80%,電阻率約10-3Ω·cm。當Co靶電流較高時,薄膜中超出極限溶解度部分的Co形成分散的納米顆粒,且在一定Co靶電流范圍內(nèi)顆粒分布較規(guī)則有序。更高的Co靶電流下顆粒長大,部分連接呈現(xiàn)準連續(xù)結(jié)構(gòu),同時還出現(xiàn)了CoO顆粒。
  

4、對于Co/AlN納米復合薄膜,隨著Co靶電流增加其結(jié)晶程度先增加后降低,光學透過率降低。經(jīng)真空退火后,薄膜結(jié)晶程度提高,光學透過性得到改善,Co納米顆粒含量增加,彌散分布在AlN基質(zhì)中。
  對Co/AZO及Co/AlN納米復合薄膜的研究結(jié)果顯示,通過控制Co靶電流可以調(diào)控Co在介質(zhì)中的存在形式,選擇適當?shù)慕橘|(zhì)層及熱處理工藝可以獲得納米顆粒排布規(guī)則有序的特殊納米微觀結(jié)構(gòu),即這種“磁控濺射交替沉積+真空退火”方法可人工裁剪獲得納米晶

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論