脈沖磁控濺射制備MgZrO復合介質(zhì)膜的結構與性能.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文系統(tǒng)研究了脈沖磁控濺射法沉積MgO復合薄膜結構與性能. 采用脈沖磁控濺射沉積MgZrO薄膜,研究Zr含量、基板負偏壓和非平衡磁控濺射對復合介質(zhì)保護膜的化學組成、結晶取向、表面形貌、殘余應力和透射率的影響規(guī)律,對實驗結果進行了較為系統(tǒng)的分析和討論,獲得了具有重要參考價值的研究結果.實驗發(fā)現(xiàn),Zr含量、基板負偏壓和非平衡磁控濺射對MgZrO薄膜的結構和性能有顯著影響.當Zr含量為2.03at.﹪、基體偏壓為-150V時薄膜具有最

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