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文檔簡介
1、材料的均勻性影響著材料的物理性質(zhì)、化學(xué)性質(zhì)和內(nèi)部結(jié)構(gòu)等,進(jìn)而對材料使用的長久性、持續(xù)性、穩(wěn)定性等都有深遠(yuǎn)意義。目前,國內(nèi)外學(xué)者對材料均勻性的研究相對較少,并且研究對象都局限在對一種或兩種材料上,并不能推廣到其它材料的均勻性表征上。
本文通過對已經(jīng)獲得的石墨化學(xué)鍍銅納米鍍層的SEM、TEM圖像進(jìn)行分析研究,通過數(shù)字圖像處理技術(shù)與統(tǒng)計(jì)分析,找出適用于更多材料的基于數(shù)字圖像處理技術(shù)的均勻性定量表征方法。
本文的主要
2、工作:
1、對石墨化學(xué)鍍銅的納米鍍層的SEM、TEM圖像進(jìn)行圖像預(yù)處理,并基于40nm石墨顆粒表面鍍銅TEM圖像的特征,設(shè)計(jì)了一種局部的OTSU二值化方法。
2、對二值圖像進(jìn)行形態(tài)學(xué)處理,通過找出目標(biāo)顆粒的連通域進(jìn)行標(biāo)記,來定位出目標(biāo)顆粒,并計(jì)算出相關(guān)的參數(shù)。
3、基于圖像處理技術(shù)已經(jīng)處理的結(jié)果,選擇“顆粒面積比”與“顆粒數(shù)量”的變異系數(shù)這兩個指標(biāo),設(shè)計(jì)出第一種均勻性定量表征的方法。
3、 4、設(shè)計(jì)了一種新的均勻性定量表征方法,即在對材料截面圖像已經(jīng)通過上述圖像處理的基礎(chǔ)上,選擇目標(biāo)顆粒之間的距離作為指標(biāo)。分析不同種類的材料截面圖像可能出現(xiàn)的特征,對圖像進(jìn)行聚類分析。并計(jì)算“類內(nèi)距離”、“類內(nèi)平均距離與類間距離”變異系數(shù)及目標(biāo)顆粒聚類的范圍在整幅圖像上的偏差共同作為表征材料截面目標(biāo)顆粒分布的均勻指標(biāo)。
5、利用上述兩種方法來對本文的石墨化學(xué)鍍銅的納米鍍層的SEM、TEM圖像勻性進(jìn)行定量表征,兩種方法得出的
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