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文檔簡介
1、本文利用球磨和退火兩種簡單方法進(jìn)行了系統(tǒng)研究，表明晶格缺陷對光催化性能的影響。同時，用沸騰回流方法合成了的不同pH值的鉬酸鉍光催化劑，表明了不同形貌、結(jié)構(gòu)的鉬酸鉍與光催化性能的關(guān)系，本論文選取ZnO和Bi2MoO6這兩種不同類型的光催化劑作為研究對象，系統(tǒng)研究了ZnO晶格缺陷和不同pH值條件下回流法合成的鉬酸鉍對光催化性能的影響與規(guī)律。
采用退火方法修復(fù)了球磨產(chǎn)生的缺陷型ZnO光催化劑，球磨使ZnO產(chǎn)生了大量缺陷，而退火能修復(fù)
2、其中的部分缺陷。通過缺陷結(jié)構(gòu)、種類和數(shù)目來調(diào)控光催化劑的價帶電子態(tài)密度分布，影響能帶間隙和光生電荷的分離和遷移，進(jìn)而對光催化活性產(chǎn)生影響。利用多種科研技術(shù)揭示了表面缺陷和體相缺陷的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)，揭示了缺陷狀態(tài)與光電流及光催化降解過程的外在關(guān)系以及與光生電荷的分離與遷移的內(nèi)在規(guī)律。當(dāng)溫度350度退火16小時，光催化活動達(dá)到最大，這是因為球磨產(chǎn)生的大量體相缺陷和非輻射缺陷導(dǎo)致催化活性的降低，退火方法可以有效修復(fù)球磨ZnO樣品的部分晶格結(jié)構(gòu)缺陷
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