基于配位作用的層層自組裝納濾膜的制備及性能研究.pdf_第1頁(yè)
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1、納濾膜的制備以界面聚合和相轉(zhuǎn)化法為主。層層自組裝是近年來(lái)發(fā)展的一種新型的膜制備方法,在制備荷電膜方面有很好的應(yīng)用前景。但多數(shù)聚電解質(zhì)以水溶液的形式進(jìn)行自組裝,且靜電力通常比較弱,所采用的親水性膜材料在水中長(zhǎng)時(shí)間使用時(shí)易發(fā)生溶脹,截留效果降低。因此,研究基于其它相互作用為推動(dòng)力的聚電解質(zhì)自組裝多層薄膜制備和性能表征及作用機(jī)理,具有重要的理論意義與實(shí)際應(yīng)用價(jià)值。
   除了依靠靜電相互作用來(lái)構(gòu)筑多層超薄膜體系外,其它的相互作用,如氫

2、鍵、配位作用、化學(xué)交聯(lián)等也可用來(lái)作為成膜的推動(dòng)力。金屬配位作用是一種比靜電力更穩(wěn)定的力,可作為一種成膜驅(qū)動(dòng)力來(lái)構(gòu)建多層膜。
   本文利用聚電解質(zhì)官能團(tuán)和過(guò)渡金屬之間的配位作用制備多層膜,在多孔超濾膜上交替沉積PSS(Cu)1/2和P4VP,制備荷負(fù)電納濾膜,考察膜的分離性能,并測(cè)試膜的穩(wěn)定性??疾炝遂o態(tài)與動(dòng)態(tài)兩種不同的制膜方式并進(jìn)行了對(duì)比。采用原子力顯微鏡(AFM)、掃描電鏡(SEM)、接觸角等方式對(duì)多層膜的表面性能進(jìn)行了表征

3、。
   對(duì)靜態(tài)層層自組裝膜制備的研究,得出了此方法制備多層膜的最優(yōu)條件:首層沉積PSS(Cu)1/2,0.4%的PSS水溶液,其中加入0.25 mol.L-1CuCl2溶液;0.2%的P4VP乙醇溶液;每層沉積時(shí)間15min。4.5個(gè)雙層的自組裝膜對(duì)二價(jià)離子的截留率到達(dá)85%左右,1.0MPa下通量大約為60 L.m-2.h-1。對(duì)一價(jià)離子的截留率僅為20%,1.0MPa下通量大約為85 L.m-2.h-1,因此可用于一價(jià)和二

4、價(jià)離子的分離。SEM照片顯示自組裝多層膜孔已經(jīng)基本上被覆蓋,且膜表面比較均勻;AFM分析表明,粗糙度隨著層數(shù)的增加逐漸增大。膜的接觸角隨著層數(shù)的增加而下降,說(shuō)明隨著自組裝的進(jìn)行,膜的親水性越來(lái)越好,抗污染能力提高。穩(wěn)定性考察結(jié)果表明,基于配位作用的多層膜的穩(wěn)定性優(yōu)于基于靜電作用制備的多層膜。
   對(duì)動(dòng)態(tài)層層自組裝膜制備的研究結(jié)果表明,在較少層數(shù)時(shí)便可達(dá)到較好的截留效果,動(dòng)態(tài)法3.5個(gè)雙層時(shí)已優(yōu)于靜態(tài)法4.5雙層的結(jié)果,說(shuō)明動(dòng)態(tài)

5、法在層層自組裝過(guò)程中具有一定優(yōu)勢(shì)。自組裝多層膜的截留率隨著層數(shù)的增加先增大后減小,當(dāng)層數(shù)為3.5時(shí)達(dá)到最大值。所制備的復(fù)合納濾膜(PSS(Cu)1/2/P4VP)3/PSS(Cu)1/2在1.0MPa下對(duì)Na2SO4的截留率為88%,溶液通量為43 L.m-2.h-1,對(duì)NaCl的截留率為23%,溶液通量為74 L.m-2.h-1。SEM照片表明,經(jīng)過(guò)幾個(gè)雙層的沉積之后,PS基膜上的圓孔消失,聚電解質(zhì)均勻覆蓋在基膜表面,使多層膜的形貌發(fā)

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