表面粗糙度對(duì)硬盤(pán)氣膜潤(rùn)滑特性的影響.pdf

1、從二十世紀(jì)五十年代開(kāi)始，計(jì)算機(jī)一直使用硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器(Hard Disk Drive，HDD)作為信息存儲(chǔ)的主要載體。為了滿足日益增加的信息及數(shù)據(jù)存儲(chǔ)的需要，計(jì)算機(jī)硬盤(pán)創(chuàng)新的關(guān)鍵是技術(shù)和產(chǎn)品的更新?lián)Q代。經(jīng)過(guò)50多年的發(fā)展，硬盤(pán)尺寸在不斷地減小，容量在不斷地增大，單位面積上磁盤(pán)的面記錄密度在不斷提高。最小飛行高度與磁盤(pán)的記錄密度關(guān)系密切，磁盤(pán)的磁記錄密度隨著最小飛行高度的降低而增大。目前，硬盤(pán)中磁頭與磁盤(pán)的距離已經(jīng)減小到只有幾個(gè)納米。在如此小

2、的間隙內(nèi)，必須考慮表面粗糙度和氣體稀薄效應(yīng)對(duì)氣膜潤(rùn)滑特性的影響。因此，研究表面粗糙度對(duì)硬盤(pán)氣膜潤(rùn)滑特性的影響對(duì)提高硬盤(pán)系統(tǒng)的工作性能意義重大。
　　本文首先基于考慮稀薄效應(yīng)和表面粗糙度影響的修正Reynolds方程的FK模型，采用有限體積法，求解了引入壓力流因子和剪切流因子的量綱化的Reynolds方程，對(duì)一維無(wú)限寬氣膜滑塊的壓力分布進(jìn)行了數(shù)值模擬。并且將數(shù)值模擬結(jié)果與采用最小二乘法模擬的結(jié)果進(jìn)行對(duì)比分析。
　　其次，進(jìn)一步