表面粗糙度對硬盤氣膜潤滑特性的影響.pdf

1、從二十世紀(jì)五十年代開始，計算機一直使用硬盤驅(qū)動器(Hard Disk Drive，HDD)作為信息存儲的主要載體。為了滿足日益增加的信息及數(shù)據(jù)存儲的需要，計算機硬盤創(chuàng)新的關(guān)鍵是技術(shù)和產(chǎn)品的更新?lián)Q代。經(jīng)過50多年的發(fā)展，硬盤尺寸在不斷地減小，容量在不斷地增大，單位面積上磁盤的面記錄密度在不斷提高。最小飛行高度與磁盤的記錄密度關(guān)系密切，磁盤的磁記錄密度隨著最小飛行高度的降低而增大。目前，硬盤中磁頭與磁盤的距離已經(jīng)減小到只有幾個納米。在如此小

2、的間隙內(nèi)，必須考慮表面粗糙度和氣體稀薄效應(yīng)對氣膜潤滑特性的影響。因此，研究表面粗糙度對硬盤氣膜潤滑特性的影響對提高硬盤系統(tǒng)的工作性能意義重大。
　　本文首先基于考慮稀薄效應(yīng)和表面粗糙度影響的修正Reynolds方程的FK模型，采用有限體積法，求解了引入壓力流因子和剪切流因子的量綱化的Reynolds方程，對一維無限寬氣膜滑塊的壓力分布進(jìn)行了數(shù)值模擬。并且將數(shù)值模擬結(jié)果與采用最小二乘法模擬的結(jié)果進(jìn)行對比分析。
　　其次，進(jìn)一步