涂層導(dǎo)體新型緩沖層制備工藝研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、第二代高溫超導(dǎo)帶材REBa2Cu3O7-x(簡寫成REBCO,RE為釔或鑭系元素),以其優(yōu)良的本征電磁特性,特別是其在高磁場下優(yōu)良的載流能力,使其在電力系統(tǒng)中擁有廣闊的應(yīng)用前景。本論文基于涂層導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)的要求,主要研究了自氧化外延技術(shù)制備涂層導(dǎo)體NiO緩沖層和化學(xué)溶液沉積法制備稀土鉍氧(REBiO3)新型緩沖層。論文的主要內(nèi)容如下:
   1、對(duì)涂層導(dǎo)體進(jìn)行概述,了解其制備方法,介紹了化學(xué)溶液沉積、電化學(xué)拋光、金屬氧化和外延生

2、長等相關(guān)理論;
   2、介紹了電化學(xué)拋光工藝、NiO緩沖層制備及新型緩沖層材料REBiO3制備的實(shí)驗(yàn)方案,介紹了REBiO3的晶體結(jié)構(gòu)、電性質(zhì)、磁性質(zhì)和抗腐蝕性,證明此材料可以充當(dāng)涂層導(dǎo)體的緩沖層的可行性;
   3、分析了電化學(xué)拋光對(duì)NiW基帶表面平整度的影響,發(fā)現(xiàn)電流密度為0.08A/cm2時(shí)間為16min時(shí),樣品的表面平整度得到很大的提高,能夠達(dá)到實(shí)驗(yàn)的要求;
   4、采用自氧化外延技術(shù)在NiW襯底生長

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