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文檔簡介
1、在室溫下,我們應(yīng)用對靶磁控濺射法制備了五個(gè)系列類三明治結(jié)構(gòu)C/Co/C納米顆粒膜樣品:磁性層厚度變化未退火系列、磁性層厚度變化400℃退火30分鐘系列、退火溫度變化系列、非磁性層厚度變化系列、多層膜中插層厚度變化系列。 我們用X射線衍射儀(X-RayDiffraction)、振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)(VibratingSampleMagnetometer)和掃描探針顯微鏡(ScanningProbeMicroscope)系統(tǒng)分析了C/Co
2、/C顆粒膜室溫下的微結(jié)構(gòu)和磁特性。 沉積的未退火樣品有較弱的Co(100),(002),(101)峰出現(xiàn),磁疇粒子之間相互貫通,沒有明確的邊界。且隨著磁性層厚度的增加,磁疇團(tuán)簇增大。在磁性層厚度為20nm,非磁性層厚度為30nm,400℃退火30min的樣品中具有很好的六角密堆積結(jié)構(gòu)。磁疇呈明顯的顆粒狀,平均粒徑在10nm~15nm之間,近于單疇結(jié)構(gòu)。掃描探針顯微鏡圖樣表明退火使得樣品的顆粒細(xì)化且變均勻了,提高了樣品表面的平滑度
3、。在退火過程中非磁性的C原子擴(kuò)散到磁性層中,對磁性的Co顆粒起到了隔離作用。δM曲線表明退火后樣品的磁性晶粒間的相互作用明顯下降。 沉積的未退火樣品和退火后的樣品磁矩都是排列在膜面內(nèi)。隨著磁性層Co層厚度的增加,矯頑力(Hc)先增大然后減小。在磁性層厚度為20nm,非磁性層厚度為30nm,400℃退火30min的樣品中,矯頑力(Hc)達(dá)到最大值約212.02Oe。在Co層厚度為20nm,C層厚度為45nm的退火樣品中,剩磁矩形比
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