TaNx-Ag-TaNx低輻射薄膜的制備及性能研究.pdf

1、低輻射玻璃具有很高的可見光透過率和遠紅外反射率，既能保證室內的采光要求又有很好的節(jié)能效果。隨著低輻射玻璃在建筑物中的廣泛應用以及對低輻射薄膜的深入研究，低輻射薄膜的穩(wěn)定性逐漸成為目前的研究熱點。從成本和性能方面考慮，目前使用的離線低輻射薄膜多為銀基低輻射膜，但是銀膜不耐磨、熱穩(wěn)定性差、耐濕性差、不耐化學腐蝕。因此，選擇合適的保護層，有效保護銀膜，提高薄膜附著力，提高低輻射玻璃的使用壽命，顯得尤為重要。氮化鉭薄膜具有良好的機械性能和優(yōu)異的

2、化學穩(wěn)定性，并且制備過程中Ag層不會氧化，是保護層的理想材料。
　　本實驗以銀靶和鉭靶為靶材，N2為反應氣體，室溫下采用射頻磁控濺射法在玻璃基片上沉積薄膜。運用紫外可見分光光度計（UV-VIS）、表面輪廓儀、傅里葉紅外光譜儀（FTIR）、X射線衍射（XRD）、場發(fā)射掃描電鏡（SEM）、X射線光電子能譜（XPS）等儀器對薄膜的各項性能進行檢測分析。
　　實驗制備了TaNx薄膜，研究了Ta靶濺射功率、N2流量和濺射時間等工藝參數(shù)

3、對其光學性能的影響，并對其遠紅外輻射率以及微觀結構和表面成分進行了研究。將TaNx薄膜用作低輻射薄膜的介質層，設計了既有很好的光學性能和低輻射性能又具有很好穩(wěn)定性的TaNx/Ag/TaNx復合薄膜，研究了Ag膜濺射功率、Ta靶濺射功率、N2流量和薄膜厚度對復合膜光學性能以及穩(wěn)定性的影響，并對其遠紅外輻射率以及復合膜的結構和成分進行了研究。
　　研究表明：TaNx具有優(yōu)異的光學性能，濺射功率為80W，N2流量50sccm，濺射時間為