脈沖陰極弧放電制備pi基低輻射薄膜及其性能研究

1、東華大學(xué)碩士學(xué)位論文脈沖陰極弧放電制備PI基低輻射薄膜及其性能研究姓名：程丹丹申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別：碩士專(zhuān)業(yè)：材料物理與化學(xué)指導(dǎo)教師：施蕓城2012-01摘要有一定的增透作用。在制備復(fù)合膜時(shí)，通過(guò)添加阻擋層T i 層，可以達(dá)到保護(hù)A g層的作用。并且隨著T i 層厚度的增加，在可見(jiàn)光和紅外光區(qū)域的透過(guò)率均下降。經(jīng)實(shí)驗(yàn)測(cè)試，厚度為1 1 蛐左右的T i 膜可以很好的保護(hù)A g 層不被氧化，而且在可見(jiàn)光區(qū)的透過(guò)率最高可以達(dá)到7 0 ％。分析測(cè)試薄膜

2、表面形貌時(shí)發(fā)現(xiàn)薄膜表面有褶皺和斷裂現(xiàn)象，通過(guò)分析得出該現(xiàn)象是由于薄膜應(yīng)力釋放造成的，并介紹了薄膜應(yīng)力與薄膜缺陷之間的關(guān)系。薄膜應(yīng)力還與柔性基底有關(guān)，二者之間存在剪切力作用，薄膜變形時(shí)基底發(fā)生變形。經(jīng)理論計(jì)算獲得薄膜褶皺現(xiàn)象產(chǎn)生的臨界應(yīng)力是5 ．8 G P a ，薄膜褶皺的波長(zhǎng)是1 ．3 岫，很好的解釋了實(shí)驗(yàn)中的褶皺現(xiàn)象。薄膜應(yīng)力是薄膜的固有缺陷，應(yīng)力釋放會(huì)產(chǎn)生形變導(dǎo)致薄膜缺陷，所以該研究對(duì)薄膜質(zhì)量的控制具有重要意義。關(guān)鍵詞：低輻射薄膜：