非線性光學復合薄膜的電化學-溶膠凝膠制備.pdf

1、非線性光學(NLO)材料廣泛應用于光信息技術、激光技術、材料分析、納米光子技術等諸多方面，研發(fā)性能優(yōu)良的三階NLO材料具有重要意義。本論文將電化學.溶膠凝膠法應用于Te/TeO2-SiO2復合薄膜和Cu/SiO2透明復合薄膜的制備，并對復合薄膜進行了組成和結構的表征，研究了復合薄膜的三階非線性光學性能。
　　 分別以異丙醇碲(Te(OPri)4)和二氧化碲(TeO2)為碲源，以正硅酸乙酯為硅源，配制了透明穩(wěn)定的TeO2-SiO2

2、復合溶膠，并以復合溶膠為電解液采用電化學-溶膠凝膠法制備了透明薄膜，電化學、SEM/EDS和XRD結果表明薄膜為Te/TeO2-SiO2復合薄膜，Te顆粒鑲嵌在TeO2-SiO2凝膠復合薄膜中。采用Z-scan法測試復合薄膜的三階非線性光學性質，結合線性光學參數和厚度值，得到復合薄膜的三階非線性極化率x(3)，其值達到10-7～10-6esu，NLO性能優(yōu)良。
　　 以氯化銅和正硅酸乙酯為前驅體，配制了透明穩(wěn)定的CuCl2-Si

3、O2復合溶膠，并以其為電解液，采用電化學-溶膠凝膠法制備了透明薄膜，電化學、SEM/EDS和XRD將薄膜表征為Cu顆粒鑲嵌在SiO2凝膠薄膜中形成的Cu/SiO2復合薄膜。z-scan和線性光學測試結果表明復合薄膜的三階非線性極化率x(3)達到10-7～10-6esu，NLO性能優(yōu)良。
　　 采用循環(huán)伏安法和計時安培法分別研究了Te在TeO2硅溶膠和水溶液中、Cu在CuCl2硅溶膠和水溶液中，于玻碳電極上的電沉積和電結晶行為；采