版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)
文檔簡介
1、分類號:密級:UDC:學(xué)號:415814712060南昌大學(xué)專業(yè)學(xué)位研究生學(xué)位論文Ti3O5納米線的自誘導(dǎo)制備及性能研究納米線的自誘導(dǎo)制備及性能研究SelfinducedPreparationPropertiesofTi3O5Nanowires劉嬌培養(yǎng)單位(院、系):南昌大學(xué)環(huán)境與化學(xué)工程學(xué)院指導(dǎo)教師姓名、職稱:杜軍副教授指導(dǎo)教師姓名、職稱:黃燕飛高級工程師專業(yè)學(xué)位種類:工程碩士專業(yè)領(lǐng)域名稱:化學(xué)工程論文答辯日期:2014年12月11日
2、答辯委員會主席:評閱人:年月日摘要摘要Ti3O5具有相變可逆性、光催化性、氧敏性等一系列特性,且阻溫穩(wěn)定性好,無毒無害,屬環(huán)境友好型材料。隨著納米科技的不斷發(fā)展,Ti3O5納米材料的研究掀起了熱潮。良好的光存儲、光催化性能使其備受關(guān)注。本學(xué)位論文采用了常壓化學(xué)氣相沉積法,對Ti3O5納米線的自誘導(dǎo)制備工藝及其光催化性能進行了研究。實驗分別考察溫度、時間、O2流量等條件對Ti3O5納米線晶型、晶相生長及光催化性能方面的影響。并研究了降溫過
3、程中納米線的生長狀況。研究表明:(1)采用自誘導(dǎo)氧化法在Ti5Si3粉末上成功地制備了單斜晶系的Ti3O5納米線。當溫度800oC,反應(yīng)時間90min,O2流量為20sccm時,有大量表面光滑直立的納米線生成。納米線長約500nm,直徑約2040nm。自誘導(dǎo)的生長機制是:在Ti5Si3表面TiO成核后形成的原空位成為誘因,促使Ti3O5結(jié)晶形成,隨著O2的不斷補充,Ti3O5納米線由頂端向下生長。反應(yīng)過程經(jīng)熱力學(xué)分析,吉布斯自由能小,反
4、應(yīng)可行。(2)Ti3O5納米線的生長受反應(yīng)溫度、反應(yīng)時間和O2流量的影響。隨著反應(yīng)溫度的增加,Ti3O5晶相生長速率逐步升高,而成核速率會先升高后降低,最佳的生長溫度為800oC;反應(yīng)時間過短則氧化反應(yīng)的進行不足,過長會因Ti元素的消耗而無法促進納米線的生長,最佳的生長時間約為90min;O2流量是Ti3O5納米線制備過程的重要影響因素之一。流量較小不利于反應(yīng);流量過大,則納米線的各向異性縮小,納米線會聚集成團,難以辨認,最佳的O2流量
5、約為20sccm。(3)在降溫過程中設(shè)置再恒溫段,因為溫度較低、反應(yīng)物不足等原因,這個階段納米線的生長速度較慢。新長出的線直徑較小,約為1520nm,使得整個納米線呈現(xiàn)頂端粗底端細的形貌特征。(4)Ti3O5納米線半徑小、比表面積很大,不僅降低了電子空穴對的復(fù)合幾率,還易于被被降解物質(zhì)吸附,提高了Ti3O5的光催化活性。在最佳工藝條件下制備的納米線的光催化性能最佳,當降解時間為180min時,Ti3O5納米線對亞甲基藍的降解率達到62%
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- APCVD法Cu基Ti3O5復(fù)合材料的制備及性能影響因素研究.pdf
- (Bi,La)4Ti3O12鐵電納米線及ZnO納米場效應(yīng)晶體管的制備及性能研究.pdf
- 鈦酸鹽納米線陣列自清潔薄膜的制備及性能研究.pdf
- Ti-O及Ti-(Cu)-O薄膜的制備及性能研究.pdf
- 半導(dǎo)體納米線-微米線器件的制備及性能研究.pdf
- 硅納米線陣列的制備及性能研究.pdf
- 自誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積制備TiO2納米線的研究.pdf
- 硅、銀納米線的制備及硅納米線熱電性能分析.pdf
- Pb(Zr,Ti)O3--CoFe2O4納米復(fù)合薄膜的制備與性能研究.pdf
- V2O5納米線和LiV3O8的合成與電容性能研究.pdf
- 硅納米線的制備及光學(xué)性能研究.pdf
- 單晶鎳納米線陣列的制備及性能研究.pdf
- 低摻雜硅納米線的制備及性能研究.pdf
- 負極材料Li4Ti5O12制備及性能研究.pdf
- V2O5納米線與V2O5-還原氧化石墨烯的制備及電化學(xué)性能研究.pdf
- 3C-SiC納米線的制備與發(fā)光性能研究.pdf
- 銅納米線透明導(dǎo)電薄膜的制備及性能研究.pdf
- 超細磁性納米線陣列的制備及性能研究.pdf
- 納米Fe3O4的制備及性能表征.pdf
- Ti6O11納米纖維的合成及性能研究.pdf
評論
0/150
提交評論