噁二唑橋基梯形聚苯基硅氧烷的合成與表征.pdf

1、設(shè)計(jì)合成含有活性基團(tuán)的對(duì)稱1,3,4-噁二唑類衍生物小分子,利用超分子模板調(diào)控逐步偶聯(lián)／聚合的方法合成了新型的嗯二唑橋基梯形聚苯基硅氧烷,這種材料能夠兼顧1,3,4-噁二唑類小分子和梯形聚合物的優(yōu)點(diǎn),從而成為一種新型的復(fù)合型電致發(fā)光材料。為其性能研究提供實(shí)驗(yàn)依據(jù)。
　　 主要內(nèi)容如下:
　　 1.以制備噁二唑橋基聚苯基硅氧烷為目的,本文設(shè)計(jì)合成了一種1,3,4-噁二唑小分子單體(M1)——1,4－二[(4－烯丙氧基苯基)

2、－1,3,4－噁二唑基]苯。通過對(duì)反應(yīng)條件的探討,建立了最佳的合成方法,并對(duì)其結(jié)構(gòu)及熒光性進(jìn)行了表征。
　　 2.本文設(shè)計(jì)合成了另一種1,3,4-噁二唑小分子單體(M2)——2,5－二(4－氨基苯基)－1,3,4－嗯二唑。通過對(duì)合成路線、還原劑等因素的探討,建立了最佳的合成方法,并對(duì)其結(jié)構(gòu)及熒光性進(jìn)行了表征。
　　 3.采用超分子構(gòu)筑調(diào)控逐步偶聯(lián)／聚合的方法,成功合成了以2,5－二(4－氨基苯基)－1,3,4-嗯二唑?yàn)闃?/p>

3、基的梯形聚苯基硅氧烷(OXD－Ph－OLPS)。通過XRD,FT-IR,29Si-NMR,VPO,熒光光譜等分析手段對(duì)聚合物的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征。XRD譜圖中有兩個(gè)衍射峰,位于2θ=6.58、19.31。分別對(duì)應(yīng)梯形高分子的平均寬度(1.35nm)和厚度(0.46nm,),說明聚合物具有良好的梯形結(jié)構(gòu)；29Si-NMR譜圖中位于δ=-21.78ppm處的峰代表梯形主鏈上硅原子峰[Ph(NH)S1O2／2],其基線半峰寬Δ1／2<1ppm,說