PDMS基多孔皺紋的制備及其應用.pdf

1、近年來包含有皺紋微結構的多級結構,由于在生物傳感器、光電器件、微轉移等方面有廣闊的應用前景而引起了人們廣泛的關注。目前,雖然有很多方法來制作不同的多級結構,但是如何快速、簡單、大規(guī)模的制備高級結構仍是面臨的一大難題。
　　本文選取了聚二甲基硅氧烷(PDMS)為材料,氫氟酸為刻蝕劑,將化學濕法刻蝕與機械拉伸起皺法相結合,制備出孔洞與皺紋復合的高級結構。通過調整刻蝕與拉伸起皺的順序以及拉伸起皺的處理方式實現了對于高級結構的調控。系統(tǒng)考

2、察了制備過程中,等離子體和紫外臭氧曝光處理時間,拉伸率,刻蝕時間以及刻蝕溫度等實驗因素對高級結構形成的影響,著重研究了通過二次曝光處理對皺紋圖案進行加固,并利用光學顯微鏡和原子力顯微鏡進行了詳細的表征。
　　其次,以制備的PDMS多孔皺紋薄膜作為彈性印章,探索了在微轉移方面的應用。如以熒光染料羅丹明B為典型的轉移物,系統(tǒng)考察了接觸時間、負載重量、轉移環(huán)境以及基底預處理對于轉移效果的影響,利用光學顯微鏡進行表征。結果表明印章表面的多